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鞏義市城區眾合儀器供應站（原鞏義市孝義合眾儀器供應站）坐落在詩圣杜甫的故鄉-鞏義市，東距鄭州86公里，西距古都洛陽78公里，洛陽至鄭州的工業走廊。我公司專業生產：水熱合成反應釜、水熱反應釜、水熱合成釜，高壓水熱反應釜（300-500度全不銹鋼反應釜系列）、水熱反應釜，配套產品均相攪拌反應器。雙層玻璃反應釜，循環真空泵系列，旋轉蒸發儀，供應的產品有；電化學工作站,腐蝕測試儀，在線監測儀器系列，真空，電熱鼓風干燥箱，低溫泵，低溫反映浴槽，電動，磁力攪拌器系列，溶解氧測試儀，恒溫水浴，油浴，振蕩器系列等30多種系列產品。是各大專院校、科研單位、生物化工、醫藥衛生，質檢部門、生命科學，石油勘測等實驗室進行實驗研究、現場監測，分析測試的理想設備，產品具有國內較H水平?！?nbsp;     公司擁有完善的生產，銷售服務體系，由市場推廣、分銷管理、直銷商務、技術支持、售后服務、區域發展等部分組成，全心全意地為用戶服務。公司秉著“誠信為人，踏實做事，追求高品質的企業理念，憑籍專業的技術實力，良好的服務態度，竭誠為廣大用戶提供蕞優質的產品和服務，期待與您建立長期友好的合作關系。公司宗旨：堅持顧客至上的原則，所有產品一年內免費保修，并負責終身維護，歡迎業內同仁惠顧垂詢。

衛星在軌運行和返回過程中需經歷極端高低溫環境，構件尺寸的穩定是保證衛星在軌高精度、返回高安全、任務高可靠的關鍵。針對衛星搭載的某寬帶微波載荷與衛星本體材料之間熱膨脹系數不匹配極易導致的載荷在軌及返回過程中載荷接收精度不穩定、信息傳輸不連續等問題。我校陳駿教授團隊以原創的負熱膨脹技術研發了具有輕質、熱膨脹系數低、力學性能優異、尺寸穩定性好的高性能低膨脹鋁基復合材料，并研制了系列關鍵連接內置件、環件等高性能低膨脹構件，首次將負熱膨脹技術應用到我國的衛星上，填補了高性能低膨脹金屬構件在工程應用領域的空白。該技術使得某寬帶微波載荷與衛星本體之間熱膨脹匹配性增強、界面應力大幅度減小，保證了衛星在軌與返回過程中信號高精度傳輸與接收，助力衛星成功返回。 圖1 實踐十九號衛星成功返回（圖片來源國家航天局） 圖2 高性能低膨脹鋁基復合材料及構件應用于全球首顆可重復使用返回式技術試驗衛星（圖片來源央視新聞頻道）

       上海頎高儀器有限公司始創于1986年，是由原上海石油儀器廠和武漢理工大學資深技術專家組成，是以研制、生產、銷售石油化工及煤化工領域分析儀器的專業生產廠商。產品適用于石油、電力、化工、科研、質檢及大專院校等相關行業領域。本公司研制生產的常規化工分析及專用實驗室儀器十三個系列，共260余種。同時每年還應對市場及用戶的各種個性需求，單獨開發和定制生產非標類特殊用途的儀器約20余種。上海頎高是國內同行業中產品門類最全、配套能力最強、發展速度最快的企業之一。公司堅定嚴格按照國標行標的試驗方法規定，絕不靠偷工減料來降低成本，保證儀器部件尺寸精度以及材料性能，真正讓用戶實驗數據滿足重復性和精密度的要求。近年來我司產品精細獨特的設計，節能可靠的系統，均被工礦企業、鐵路部隊、科研院校和質監部門廣泛采用，受到用戶一致好評。公司內部已實施CRM、ERP項目管理，為產品品質及企業的長遠發展提供了強有力的保障。面對未來，頎高人堅守“嚴謹、求實、高效、創新、合作、發展”的企業精神，精益求精，以一流的產品、優質的服務滿足客戶需求，為促進提高民族分析儀器工業的振興發展作出貢獻。 　  多年來，公司非常注重新技術、新工藝、新器件、新材料的應用，不斷提升公司儀器的自動化、智能化水平。據不完全統計，目前公司儀器中使用單片機技術或筆記本電腦進行控制測量、分析計算的儀器，已經達到近100種。儀器的技術含量和技術檔次得到極大的提高，深受國內外用戶的歡迎。多年的研發和實踐，讓上海頎高儀器更加精致穩定，更加符合國標及行標的試驗要求。公司秉承“以人為本，科技創新”的理念，將銷售收入的10%～15%用于研發，致力于將產品升級換代至世界一流水準。依靠“高、精、尖“的科技人才隊伍及運用行業領先的開發手段，使得頎高產品質量更有保障，品種不斷更新，始終處于行業領先地位。        未來的一年，我們仍將兢兢業業，樂于研發，不斷提升，生產出質量更好、性能更完備的油品儀器，來滿足市場和答謝各位朋友的關心與支持。同時繼續秉承“質量優、服務好、價格適中”的宗旨，竭誠向各位新老用戶提供質量優異的石油化工及煤化工分析儀器和良好的售后服務。歡迎各界人士惠顧考察與指導！

        研發團隊針對高性能、抗靜電熱控涂層材料開展自主科研攻關，研發出具有自主知識產權的白色氧化鋅導電粉體，與相關企業合作建立了100Kg級導電粉體中試生產線，完成了粉體批次穩定性驗證，突破了批量制備導電粉體穩定性差的瓶頸，形成了一套高性能白色氧化物導電粉體的標準生產工藝。產品技術指標經權威檢測機構檢驗達到或超過進口產品水平，并已通過國家航天領域應用驗證。同時，產品原料及生產成本遠低于進口產品，有望在我國民用市場普及。產品可應用于汽車、電子、紡織、橡膠和化工等領域的防靜電、節能、電磁屏蔽等，如輪胎橡膠添加劑、紅外反射涂層、防靜電涂層等，市場前景廣闊。         意向開展成果轉化的前提條件：中試放大及產業化工藝開發資金支持

鎂合金是作為一種輕質金屬結構材料，具有密度低、比強度和比剛度高、阻尼性能好、電磁屏蔽效果好、鑄造性能優良和加工性能好的優點，獲得了廣泛的應用前景。在鎂合金產業化應用過程中，稀土往往作為制備過程中的優化劑來改善合金的熔體純凈度、晶粒細化度及產品外觀質量，同時可大幅度提升合金的強度與延伸率。但是目前普遍使用的稀土鎂合金強度低導熱性能差，限制了其大規模應用。因此，開發具有高導熱性、高強度的鎂合金對于擴大鎂合金在 5G 通信、3C 器件及汽車產品等需要高散熱領域的應用，具有極其重要的意義。 高導熱高強度鎂合金是在一定配比的 Mg-Zn-Zr 系列合金中添加 Nd 稀土金屬，Nd 的添加可以改善合金的熔體純凈度、晶粒細化度及產品外觀質量，并有效析出基體中的 Zn和 Zr 原子，有效提升合金的導熱性能和力學強度。鎂合金的導熱性能可以通過導熱率來體現，力學性能可以通過抗拉強度，屈服強度體現。高的導熱性能可以保證合金在散熱器件領域的熱導性能指標，使器件可以具有較快的熱量傳輸能力，使設備內部熱量及時排出;高的力學強度可以保證合金作為結構件的力學性能指標，使其作為結構件更為可靠。相較于傳統鎂合金，團隊通過添加 Nd 稀土元素可以有效提升鎂合金的導熱性能和力學強度，Nd 一般分布于晶界，可以弱化鎂合金的織構，提升鎂合金各晶粒之間的協調能力:而且 Nd 在鎂合金成型過程中可以與 Zn 原子結合形成熱穩定的第二相，促進動態再結晶提升鎂合金的強度:此外，Nd 元素的添加會與基體中的 Zn 元素結合，減弱基體中的晶格畸變，提升鎂合金的熱導率。

        技術成熟度：技術突破         傳統CMOS工藝的圖形處理器通常是由探測、存儲、處理等多個分立系統構成，不可避免的增加了集成電路的復雜性、功耗和成本，憶阻器在新型信息存儲器件、存算一體化技術及人工神經網絡等領域有著巨大應用潛力。         研發團隊發展的感存算一體化新型光電憶阻材料與器件能夠解決傳統人工視聽覺系統在容量、集成度、速度等方面的技術瓶頸問題，是實現高效智能視聽覺傳感系統的基礎。研發團隊首次在基于氧化鎢材料憶阻突觸器件的視聽覺系統中模擬了速度檢測的多普勒頻移信息處理，進而實現高通濾波和處理具有相對時序和頻移的尖峰數據。這些結果為視聽覺運動感知的模擬提供了新機會，促進了其在未來神經形態傳感領域的應用。         意向開展成果轉化的前提條件：中試放大及產業化工藝開發資金支持

EV-400高真空金屬有機蒸發鍍膜機 真空腔室：前開門真空腔體，方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發材料以及真空室的日常維護保養； 真空系統：國產分子泵作為主抽泵，真空極限優于5.0?10-5Pa（經烘烤除氣后）；另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限優于3.0?10-6Pa（經烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 蒸發源：4～6組歐美技術金屬或是有機束源爐蒸發源可選，多源共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定； 蒸發電源：真空專業蒸發電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能； 基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉，轉速0～20r/min連續可調； 基片臺功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀； 可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。

納米氮化硼材料兼具氮化硼和納米材料的雙重優勢，廣泛應用于航空航天、高端電子散熱材料、吸附劑、水凈化、化妝品等領域。項目團隊開發出一種能夠實現形貌和尺寸均一且具有超大比表面積多孔氮化硼納米纖維的規模化制備技術，目前市場尚未實現規?；a。該技術合成工藝簡單可控、成本低、過程綠色環保，處于國際領先地位。 1 產品的應用領域 圖2 高性能氮化硼納米纖維粉體 圖3 氮化硼納米纖維粉體微觀形貌

MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：直徑450?H400mm，1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，前開門結構； 真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）； 極限真空：優于5?10-5Pa（經烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 升降基片臺：2～6英寸基片臺，靶基距60～120mm連續在線自動可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至500℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能； 磁控靶：直徑3英寸2～4只（可升級成直徑4英寸靶2～3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 質量流量計：2～3路工藝氣體，可根據工藝要求增加； 膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。