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本成果是國家授權發明專利。該發明提供一種基于系數差的成比例仿射投影回聲消除方法，該方法對回聲消除效果好，環境自適應能力強，收斂速度快，穩態誤差小，同時計算復雜度低，所需硬件成本低，結構簡單，容易實施。

本發明公開了一種對射式多焦點激光分離脆性透射材料方法及 裝置，該方法采用相同的工藝參數，在待分離脆性透射材料的厚度方 向兩側，每側利用同軸激光分別穿過多焦點鏡片組并反向對射，使脆 性透射材料內部產生的焦點數量加倍，以改善脆性透射材料沿厚度方 向上對激光能量吸收的均勻性，使脆性透射材料沿厚度方向的受熱膨 脹均勻性增強，激光多焦點光束離開后，沿脆性透射材料厚度方向迅 速冷卻而產生拉應力，實現激光對厚脆性透射材料的分離。裝

本成果是國家授權發明專利。該發明提供一種仿射投影符號子帶凸組合自適應回聲消除方法，該方法對通信系統的聲學回聲的消除效果好，收斂速度快，穩態誤差小。

本發明公開了一種單機無窮大仿射非線性系統最優控制方法，基于單機無窮大系統，進行非線性最 優控制設計，將單機無窮大系統發電機轉子運動方程寫成單輸入單輸出仿射非線性系統的形式，通過坐 標映射得一個完全可控的精確線性化后的系統，再根據二次型最優控制 LQR 的設計方法求解精確線性 化后系統的控制量，從而得到原系統的非線性最優控制器，并進行實時在線半實物仿真，驗證方案的實 際可行性。本發明可以實現對單機無窮大系統的精確線性化，同時考慮了純數字離線仿真非實時性的情 況，通過半實物仿真實驗驗證了基于理論設計的控制器在實際真實現場應用中的控制效果。通過在實際 應用中檢查被設計控制器的效果，這有利于被設計的算法更符合實際。 

本發明提供了一種基于仿射攝動的區間不確定性結構能量響應預示方法，建立各子系統的確定性結構的統計能量控制方程，進而引入區間因素，獲取區間不確定性結構的區間統計能量控制方程，設定不確定性參數的區間參數，基于仿射攝動算法得到各區間變量的仿射區間表達式，設定各變量的攝動分析表達式，進而基于區間仿射算法的運算法則，推導得到考慮區間不確定性結構的子系統區間能量表達式，給定初始邊界參數和求解頻率后，計算得到區間不確定性結構的區間能量響應。通過本發明方法使得區間不確定性結構區間能量響應的區間寬度大大縮小、區間能量響應的預示精度大大提高，從而可以更加精確地評估區間不確定性結構的高頻動力學特性，具有重要的工程應用價值。

已有樣品/n本發明提供了一種趨磁細菌及利用其制備磁性磁小體的方法。從淡水中分離出一種能產生磁性磁小體的趨磁螺菌Magnetospirillumsp.ME-1。該菌株為大小2.62~4.83x0.44~0.62μm的趨磁螺菌，含有由10~31個磁小體顆粒組成的磁小體鏈，磁小體成分為四氧化三鐵（Fe3O4），形態為立方八面體或立方體，大小為26-40nm。該菌株發酵性能優良，所產生的磁小體具有極大的產業化推廣前景

產品概述： FCP磁場控制平臺是根據磁控原理設計的理想磁測量系統，磁場范圍超過3T，利用TESTIK475高斯計穩定磁場控制，適合各系列電磁鐵配置，連續可變的電磁氣隙，實心的和光學入口極帽，線型雙極，真實四象限電磁鐵電源。   您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ 磁場控制平臺磁控原理磁測量系統 FCP磁場控制平臺控制特征： TESTIK475型高斯計努力保持確切的磁場密度，用戶輸入的控制設定點，用G、T、Oe、A/m來表示。北京錦正茂的電磁鐵磁場控制平臺集成了硬件和控制部件來形成一個變化的磁場平臺，可以被獨立的被利用或做為用戶設計的測量系統的一個基礎。 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！  磁場控制平臺磁控原理磁測量系統 ※ 磁場控制平臺包括錦正茂公司的電磁鐵、雙極電源、具有控制能力的DSP技術的高斯計、霍爾探頭及支架等。 錦正茂提供的磁場控制平臺具有不同的配制用來滿足在磁場強度、磁場均勻性、樣品尺寸、自定義測量要求等基礎之上的用戶要求。可以獨立的形成用戶所需要的不同磁場強度的可變磁場。廣泛用于磁光測量系統、VSM測量系統、在線退火、霍爾效應、磁化率測量、自旋磁共振、B-H曲線測量和精準的傳感器校準等領域。 475高斯計從高斯計霍爾探頭得到反饋來計算并調整控制（模擬）輸出。為了更大程度實現控制的穩定性，475型高斯計每33毫秒更新模擬輸出。結果是一個內置的PI 控制器提供了峰值-到-峰值的0.5 G*的磁場穩定性。 ※ 當設定點速率激活的時候，儀器會開始從當前磁場讀數加速而不是當前設定點，基于對P和I的設定。另外，475高斯計能設定速率來控制設定點，從當前磁場讀數到一個新的值，使用一個磁場中平滑線性變換而不是瞬態特性的PI控制。 ※ 開環磁場控制也可能用手動輸出來使用475模擬輸出，這意味著忽視了反饋并且模擬輸出停留在手動用戶調整。這個方法使磁體電源操作處于恒定電流模式。 ※ 475也包含了用戶可設定的控制斜率限制和模擬輸出電壓限制。這些軟件限制保證了磁體電源如果磁場控制系統遭到不合適的調整或開始擺動而不會損壞。 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ 錦正科技以現代高科技產業和傳統產業為核心業務，對內承接科研生產任務，對外以商務平臺方式實現軍民兩用技術成果轉換，形成了科學管理的現代化經營模式，專門從事物理、化學和材料等領域的科學儀器研發、銷售各類型超低溫測試設備（液氮 液氦）制冷機系統集成 ，定制 ，高低溫真空磁場發生系統，Helmholtz線圈（全套解決方案），電磁鐵（全系列支持定制），螺線管，電子槍（高穩定性雙極性磁鐵恒流電源1ppm），高低溫磁場真空探針臺，霍爾測試系統，電輸運測量解決方案，磁光克爾效應測量系統等產品種類齊全，性能可靠，至今已有近10余年的歷史，是國內（較早）生產探針臺，電輸運，電磁鐵的廠家之一。    

針對傳統光柵衍射效應固定不變，不可調節，運用面狹窄的問題，提出了一種磁流體光柵，利用外磁場的強度來控制磁流體的折射率和吸收系數，進而使得磁流體光柵的折射率調制和吸收系數調制隨外磁場的改變而改變，實現磁流體光柵衍射效率可調的特性。   所述磁流體光柵包括一個周期性凹槽、一種磁流體、一個光學透明的剛性覆蓋層及一個磁場產生裝置，磁流體填入周期性凹槽的各個凹槽中，光學透明的剛性覆蓋層將磁流體密封在周期性凹槽中，磁場產生裝置置于周期性凹槽外，磁場產生裝置通電后在磁流體所在的位置產生均勻、可調的磁場，用于改變磁流體的折射率和吸收系數。   所述的周期性凹槽是在光學透明的剛性襯底上用帶折射率的光學材料隔成一個個凹槽，制作凹槽的方法采用蝕刻法。所述磁流體，由表面包覆活性劑的磁性微粒和用于分散磁性顆粒的液相載液組成。所述周期性凹槽的深度在1μm—10μm之間、寬度在1μm一200μm之間。所述光學透明的剛性襯底和光學透明的剛性覆蓋層為石英(Si02）、光學玻璃。所述的周期性凹槽的周期Λ、深度d、入射光波長λ和磁流體光柵的平均折射率n0滿足關系式2πλd／(noΛ)2<<1薄光柵條件，形狀選用矩形、鋸齒形、余弦形。所述的磁流體的磁性微粒選用四氧化三鐵(Fe304)、三氧化二鐵(Fe203)、錳鋅鐵氧體，表面活性劑選用油酸、亞油酸、橄欖油，液相載液選用水、煤油。所述的磁場產生裝置包括一個或一對螺線圈和一個可調直流恒流源，該可調直流恒流源用于給電磁鐵或螺線圈供電，其輸出電流的大小控制電磁鐵磁場或螺線圈感應磁場的強度。所述的磁場產生裝置產生的磁場平行于襯底或覆蓋層的表面、并且垂直于凹槽的長邊側壁。  將磁流體這一液相磁性物質用來制作光柵，利用磁流體的折射率和吸收系數隨外磁場強度變化的特點，通過外磁場即可控制光柵的衍射光效率，從而實現了衍射奴率可調的光柵。實現了可在線、實時調節指定階次衍射光的衍射效率，為光通訊和光子器件領域的性能提高提供了新的方法。

產品詳細介紹安裝簡單方便粘貼式磁性帶傳感器磁頭安裝允許的間隙小（10mm）非接觸式線性測量系統，無磨損抗液體、抗油污、抗振動，可以在-20～70℃溫度范圍內正常使用 廣泛應用于各種行業的位置、角度檢測中 

320mm×220mm×200mm，酒精燈加熱，輪子會轉動。