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產(chǎn)品詳細(xì)介紹  氧化鋁陶瓷坩堝,剛玉陶瓷坩堝有：弧形氧化鋁剛玉坩堝，方形氧化鋁剛玉坩堝，長(zhǎng)方形氧化鋁陶瓷剛玉坩堝，圓柱形陶瓷剛玉坩堝，氧化鋁剛玉管，等等各種異形氧化鋁陶瓷坩堝，承接非標(biāo)訂做各種異形氧化鋁剛玉陶瓷坩堝．歡迎聯(lián)系！剛玉陶瓷坩堝系列：適用于各種實(shí)驗(yàn)室金屬、非金屬樣品分析及熔料用。 坩鍋系列——用于化驗(yàn)室及各種工業(yè)分析。     氧化鋁坩堝剛玉瓷坩堝特點(diǎn)： 1、純度高：Al2O3＞99%，耐化學(xué)腐蝕性好 2、耐溫性好，長(zhǎng)期使用在1600℃，短期1800℃ 3、耐急冷急熱性好，不易炸裂 4、注漿成型密度高 高純氧化鋁坩堝 剛玉坩堝理化指標(biāo) 名          稱 氧 化 鋁 坩 堝     化   學(xué)   成   分 Al2O3 ≥99 R2O ≤0.2 Fe2O3 ≤0.1 SiO2 ≤0.2 體 積 密 度（g/cm2） ≥3.80 顯 氣 孔 率（%） ＜1 抗 彎 強(qiáng) 度（Mpa） ＞350 抗 壓 強(qiáng) 度（Mpa） ＞12000 介 電 常 數(shù) ∑（1MHz） 2 最 高 使 用 溫 度（℃） 1800 規(guī)格有： 弧形坩堝：10毫升，15毫升，20毫升，30毫升，50毫升，100毫升，150毫升，200毫升，300毫升，500毫升，750毫升，1000毫升。 直形坩堝：直徑30*30------160*160毫米 方形坩堝：65*65-------240*240毫米 備：可根據(jù)用戶需求定制各種非標(biāo)異型氧化鋁坩堝！

產(chǎn)品詳細(xì)介紹

最近以來(lái)，LED照明以其節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)，獲得了大規(guī)模的應(yīng)用。在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中，熒光粉會(huì)由于熱量的產(chǎn)生，而發(fā)生發(fā)光強(qiáng)度的衰減，引起發(fā)光器件色坐標(biāo)的偏移。 例如，BaMgAl10Ol7：Eu2+ (BAM)因在紫外、真空紫外光激發(fā)下具有優(yōu)良的發(fā)光效率而廣泛應(yīng)用于等離子體顯示(Plasma Display Panel，簡(jiǎn)稱PDP)中。但BAM粉在涂屏過(guò)程及工作過(guò)程中會(huì)發(fā)生亮度衰減現(xiàn)象而使PDP的性能受到影響。因?yàn)樵谕科罰DP過(guò)程中，經(jīng)絲網(wǎng)印刷后，需600℃高溫焙燒，以除去有機(jī)溶劑。這樣會(huì)使作為發(fā)光中心的Eu2+被部分氧化成Eu3+。而工作過(guò)程中則會(huì)發(fā)生真空紫外激勵(lì)的輻照造成衰減和氣體放電離子濺射造成衰減。因?yàn)楦吣芰Ｗ拥臑R射會(huì)造成熒光粉表面缺陷使晶體的表面破壞從而導(dǎo)致發(fā)光亮度的降低。所以，如何解決藍(lán)色熒光粉的熱衰減與真空紫外輻照造成的衰減是目前亟待解決的課題。對(duì)熒光粉進(jìn)行表面修飾——包覆是提高其抗衰減性能的一個(gè)有效途徑，因?yàn)橥ㄟ^(guò)包覆不僅可以解決由于電性能和表面化學(xué)活性不穩(wěn)定造成的熒光粉性能下降。如中國(guó)專(zhuān)利CN1667081A公開(kāi)了一種氧化鋁包覆熒光粉的方法；中國(guó)專(zhuān)利CN1664051A公開(kāi)了一種氧化鎂包覆熒光粉的方法。這些方法均一定程度上解決了目前藍(lán)色熒光粉的衰減問(wèn)題。但由于這些方法都是采用液相法,對(duì)溶液的酸堿性要求高，工藝較復(fù)雜，最終產(chǎn)品性能重復(fù)性差。 本專(zhuān)利通過(guò)一種新型包覆方法，在粉體表面沉積原子層的惰性層，通過(guò)精確控制碳的沉積厚度在1nm左右,如下圖，可保持表面包覆層在紫外至紅外波段的透明度,有效消除熒光粉表面缺陷而不影響光的入射和出射，從而有效地提高熒光粉的發(fā)光效率。 該方法適用于氧化物和氮化物熒光粉，普適性好，可提高熒光粉的熱穩(wěn)定20%以上，具有成本低，工藝簡(jiǎn)單，重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)，易于大規(guī)模生產(chǎn)。

最近以來(lái)，LED照明以其節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)，獲得了大規(guī)模的應(yīng)用。在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中，熒光粉會(huì)由于熱量的產(chǎn)生，而發(fā)生發(fā)光強(qiáng)度的衰減，引起發(fā)光器件色坐標(biāo)的偏移。 例如，BaMgAl10Ol7：Eu2+ (BAM)因在紫外、真空紫外光激發(fā)下具有優(yōu)良的發(fā)光效率而廣泛應(yīng)用于等離子體顯示(Plasma Display Panel，簡(jiǎn)稱PDP)中。但BAM粉在涂屏過(guò)程及工作過(guò)程中會(huì)發(fā)生亮度衰減現(xiàn)象而使PDP的性能受到影響。因?yàn)樵谕科罰DP過(guò)程中，經(jīng)絲網(wǎng)印刷后，需600℃高溫焙燒，以除去有機(jī)溶劑。這樣會(huì)使作為發(fā)光中心的Eu2+被部分氧化成Eu3+。而工作過(guò)程中則會(huì)發(fā)生真空紫外激勵(lì)的輻照造成衰減和氣體放電離子濺射造成衰減。因?yàn)楦吣芰Ｗ拥臑R射會(huì)造成熒光粉表面缺陷使晶體的表面破壞從而導(dǎo)致發(fā)光亮度的降低。所以，如何解決藍(lán)色熒光粉的熱衰減與真空紫外輻照造成的衰減是目前亟待解決的課題。對(duì)熒光粉進(jìn)行表面修飾——包覆是提高其抗衰減性能的一個(gè)有效途徑，因?yàn)橥ㄟ^(guò)包覆不僅可以解決由于電性能和表面化學(xué)活性不穩(wěn)定造成的熒光粉性能下降。如中國(guó)專(zhuān)利CN1667081A公開(kāi)了一種氧化鋁包覆熒光粉的方法；中國(guó)專(zhuān)利CN1664051A公開(kāi)了一

項(xiàng)目成果/簡(jiǎn)介: 本產(chǎn)品圍繞晶圓級(jí)、芯片級(jí)和倒裝等先進(jìn)封裝形式的大功率白光LED產(chǎn)業(yè)發(fā)展重大需求，突破了高速高均勻度熒光粉膠霧化涂覆控制、生產(chǎn)過(guò)程品質(zhì)控制與優(yōu)化管理等核心技術(shù)，自主研發(fā)了面向晶圓級(jí)級(jí)封裝的全自動(dòng)晶圓級(jí)LED熒光粉高均勻涂覆機(jī)。本產(chǎn)品采用自動(dòng)上下料傳送機(jī)構(gòu)、自動(dòng)加熱、自動(dòng)視覺(jué)定位、涂覆厚度自動(dòng)檢測(cè)、自動(dòng)按照設(shè)定路徑和涂覆參數(shù)進(jìn)行涂覆，是以復(fù)雜的光機(jī)電一體化精密封裝設(shè)備，主要技術(shù)性能指標(biāo)達(dá)到國(guó)內(nèi)領(lǐng)先水平。  應(yīng)用于LED生產(chǎn)行業(yè)，滿足了各種新型LED封裝自動(dòng)化生產(chǎn)需求，有效提升了封裝質(zhì)量、熱阻分散性、色品一致性、出光效率等性能指標(biāo)和產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。推動(dòng)我國(guó)半導(dǎo)體照明等新興戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè)的持續(xù)性發(fā)展。 全自動(dòng)晶圓級(jí)LED熒光粉智能涂覆機(jī)知識(shí)產(chǎn)權(quán)類(lèi)型:發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)先進(jìn)程度:達(dá)到國(guó)內(nèi)領(lǐng)先水平成果獲得方式:獨(dú)立研究獲得政府支持情況:無(wú)

本產(chǎn)品圍繞晶圓級(jí)、芯片級(jí)和倒裝等先進(jìn)封裝形式的大功率白光LED產(chǎn)業(yè)發(fā)展重大需求，突破了高速高均勻度熒光粉膠霧化涂覆控制、生產(chǎn)過(guò)程品質(zhì)控制與優(yōu)化管理等核心技術(shù)，自主研發(fā)了面向晶圓級(jí)級(jí)封裝的全自動(dòng)晶圓級(jí)LED熒光粉高均勻涂覆機(jī)。本產(chǎn)品采用自動(dòng)上下料傳送機(jī)構(gòu)、自動(dòng)加熱、自動(dòng)視覺(jué)定位、涂覆厚度自動(dòng)檢測(cè)、自動(dòng)按照設(shè)定路徑和涂覆參數(shù)進(jìn)行涂覆，是以復(fù)雜的光機(jī)電一體化精密封裝設(shè)備，主要技術(shù)性能指標(biāo)達(dá)到國(guó)內(nèi)領(lǐng)先水平。  應(yīng)用于LED生產(chǎn)行業(yè)，滿足了各種新型LED封裝自動(dòng)化生產(chǎn)需求，有效提升了封裝質(zhì)量、熱阻分散性、色品一致性、出光效率等性能指標(biāo)和產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。推動(dòng)我國(guó)半導(dǎo)體照明等新興戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè)的持續(xù)性發(fā)展。   全自動(dòng)晶圓級(jí)LED熒光粉智能涂覆機(jī)

本發(fā)明提供了一種納米氮化釩及納米碳氮化釩粉體的制備方法。其特征在于以粉狀釩酸銨、碳質(zhì)還原劑和微量稀土等催化劑為原料，按一定配比將它們?nèi)苡谌ルx子水或蒸餾水中，并攪拌均勻，制得溶液。然后將該溶液加熱、干燥，最后得到含有釩源和碳源的前驅(qū)體粉末。將前驅(qū)體粉末置于高溫反應(yīng)爐中，并通入還原氣體作為反應(yīng)和保護(hù)氣體，于800～950℃、30～60min條件下，制得平均粒徑＜100nm、粒度分布均勻的納米氮化釩及納米碳氮化釩粉體。本方法具有反應(yīng)溫度低、反應(yīng)時(shí)間短、生產(chǎn)成本低、工藝簡(jiǎn)單等特點(diǎn)，適合工業(yè)化生產(chǎn)。

成果簡(jiǎn)介： 最近以來(lái)，LED照明以其節(jié)能環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)，獲得了大規(guī)模的應(yīng)用。在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中，熒光粉會(huì)由于熱量的產(chǎn)生，而發(fā)生發(fā)光強(qiáng)度的衰減，引起發(fā)光器件色坐標(biāo)的偏移。 例如，BaMgAl10Ol7：Eu2+ (BAM)因在紫外、真空紫外光激發(fā)下具有優(yōu)良的發(fā)光效率而廣泛應(yīng)用于等離子體顯示(Plasma Display Panel，簡(jiǎn)稱PDP)中。但BAM粉在涂屏過(guò)程及工作過(guò)程中會(huì)發(fā)生亮度衰減現(xiàn)象而使PDP的性能受到影響。因?yàn)樵谕科罰DP過(guò)程中，經(jīng)絲網(wǎng)印刷后，需600℃高溫焙燒，以除去有機(jī)溶劑。這樣會(huì)使作為發(fā)光中心的Eu2+被部分氧化成Eu3+。而工作過(guò)程中則會(huì)發(fā)生真空紫外激勵(lì)的輻照造成衰減和氣體放電離子濺射造成衰減。因?yàn)楦吣芰Ｗ拥臑R射會(huì)造成熒光粉表面缺陷使晶體的表面破壞從而導(dǎo)致發(fā)光亮度的降低。所以，如何解決藍(lán)色熒光粉的熱衰減與真空紫外輻照造成的衰減是目前亟待解決的課題。對(duì)熒光粉進(jìn)行表面修飾——包覆是提高其抗衰減性能的一個(gè)有效途徑，因?yàn)橥ㄟ^(guò)包覆不僅可以解決由于電性能和表面化學(xué)活性不穩(wěn)定造成的熒光粉性能下降。如中國(guó)專(zhuān)利CN1667081A公開(kāi)了一種氧化鋁包覆熒光粉的方法；中國(guó)專(zhuān)利CN1664051A公開(kāi)了一種氧化鎂包覆熒光粉的方法。這些方法均一定程度上解決了目前藍(lán)色熒光粉的衰減問(wèn)題。但由于這些方法都是采用液相法,對(duì)溶液的酸堿性要求高，工藝較復(fù)雜，最終產(chǎn)品性能重復(fù)性差。 本專(zhuān)利通過(guò)一種新型包覆方法，在粉體表面沉積原子層的惰性層，通過(guò)精確控制碳的沉積厚度在1nm左右,如下圖，可保持表面包覆層在紫外至紅外波段的透明度,有效消除熒光粉表面缺陷而不影響光的入射和出射，從而有效地提高熒光粉的發(fā)光效率。 該方法適用于氧化物和氮化物熒光粉，普適性好，可提高熒光粉的熱穩(wěn)定20%以上，具有成本低，工藝簡(jiǎn)單，重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)，易于大規(guī)模生產(chǎn)。

采用試驗(yàn)檢測(cè)與理論分析相結(jié)合、宏觀測(cè)試與微觀結(jié)構(gòu)分析相結(jié)合氣固還原反應(yīng)基本原理與分子動(dòng)力學(xué)模擬相結(jié)合的方法，研究了氣固還原過(guò)程中的鐵氧化物顆粒表面鐵晶須的形成、生長(zhǎng)形態(tài)；研究還原氣體組成、溫度、脈石成分或添加劑、表面改質(zhì)預(yù)處理等對(duì)顆粒表面新生鐵晶須生長(zhǎng)狀態(tài)、生長(zhǎng)速度的影響和作用機(jī)理，重點(diǎn)探明鐵礦粉顆粒表面鐵晶須的形成、長(zhǎng)大的機(jī)理，以及鐵礦粉顆粒間鐵顆粒間的粘結(jié)、橋接方式和相互作用規(guī)律；為揭示流態(tài)化還原中鐵礦粉粘結(jié)失流問(wèn)題及其控制奠定理論基礎(chǔ)和參考依