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產品詳細介紹 EBC空氣消毒凈化機 豎于辦公室、客廳、書房、臥室、兒童房等空間 您需要一臺空氣消毒凈化器，消毒凈化 雙重消毒殺菌+雙重空氣凈化 殺菌凈化更有效 雙重消毒殺菌雙重空氣凈化 有效減弱飛沫傳播、氣溶膠傳播 除菌率＞99.9% 顆粒物凈化CADR值329m3/h 嶄粒物累積凈化量P4級~ 甲醛累積凈化量F4級 循環風量450m3/h GERMAGIC+HEPA高效復合濾網 高效過濾，減少空氣中的病毒傳播媒介 動態消毒，人機共存，消毒隨時在線 適用多種場景人群 辦公室/養寵人群/母嬰臥室/兒童房/新裝住宅/客廳 雙重消毒雙重凈化 解決生活空氣污染 普通的空氣凈化器，吸附的細菌大量堆積濾網，當機器運轉時可能會再次回到空氣中,造成二次污染 創新 GERMAGIC+HEPA 高效復合濾網中的GERMAGIC技術能持久穩定的殺滅病毒細菌，絕大多數病毒細菌在一分鐘內殺滅，殺滅率達99%+；同時HEPA濾網技術的過濾級別可達PM0.3,對空氣中的細微顆粒污染物去除效率達99.9%。 高效復合濾網技術 HEPA濾網技術 過濾級別達PM0.3 空氣中細微顆粒污染物去除率達99.9% 減少空氣中的病毒傳播媒介 紫外光觸媒殺菌技術 全封閉式設計，無紫外光泄露，可人機共存 殺菌率超過99%,關愛家人健康 殺菌率 超過99% 快速長效除醛 無懼裝修污染持久釋放 活性炭濾網 吸附空氣中的甲醛、TVOC、苯等有害物質 保護您和家人的呼吸健康 “靜”無止境 低功率與高效能效等級，降低70%的噪音 讓您擁有寧靜舒適的居家環境 睡眠模式下噪音低至30dB 觸控面板+空氣質量指示燈設計 簡潔面板，清晰功能鍵，簡單易用 三色指示燈，好空氣看得見 智能DC直流電機 無刷直流電機，內置驅動回路 可實現無斷差變速 壽命是普通無刷直流電機的兩倍 產品名稱：EBC空氣消毒凈化機 產品型號：HX450Y-EZ 顆粒物CADR值：329m3/h 顆粒物CCM：P4 甲醛CCM：F4 除菌效率：>99.9% 排毒方式：GERMAGIC+紫外光觸媒 凈化方式：活性炭濾網+高效HEPA濾網 電源：220V AC/50HZ 功率：65w 循環風量：450m3/h 推薦使用面積：10~35m2空間 重量：6.7kg 產品尺寸：365x205x545MM 登錄“EBC英寶純”查詢完整報價方案

MKRB-Y2激光焊接機器人工作站主要由焊接機器人、變位機、激光器、激光電源、控制系統、激光指示定位系統、光纖傳輸及聚焦系統、冷卻系統等組成一套智能激光焊接機器人工作站。 工作站激光電源采用最新型基干觸摸屏操作控制的智能化高精度恒流型開關電源，內部采用基干FPGA和ARM的嵌入式結構，控制部分是基于Linux內核操作系統，外部顯示配置彩色觸摸屏，提供了水溫、水壓、缺相、過流、過壓等多種故障報警功能，通過觸摸屏界面可以實現對多種激光波形和參數分段進行編程，人機界面美觀大方，功能強勁，質量可靠，各種技術指標參數處干同行業技術領先水平?；诠I控制現場總線的數據通訊，具備較強的抗干擾能力。

MKRB-Y3激光切割機器人工作站主要由切割機器人、伺服變位機、光纖激光切割電源、機器人激光割槍系統、安裝框架、冷水機系統、集成控制系統等組成?？梢?4小時連續作業，跟人工作業相比，其效率，質量，穩定性等有很大提高。 三維光纖激光切割機器人系統是一種可對不同度的金屬板材進行多角度，多方位柔性切割的先進的激光切割設備，其利用工業機器人靈活和快速的動作性能，根據用戶切割加工工件尺寸的大小，通過將機器人進行正裝或倒裝，并針對不同產品、不同軌跡進行示教編程或離線編程，通過光纖激光切割頭對不規則工件進行三維切割;利用光纖將激光傳輸到切割頭上(光纖激光切割頭上配備專用光纖隨動裝置和光路傳輸裝置)，再利用聚焦系統進行聚焦，可對多種三維金屬板材進行多方位的切割。根據金屬板材的厚度不同，所選光纖激光器的功率大小也不一樣，對不同功率的激光器配備制冷量不同的冷卻系統，以保障激光器的正常工作。本套三維光纖激光切割機器人系統作為激光應用技術的高端技術已經越來越廣泛地應用干汽車制造行業加汽車零部件、汽車車身、汽車車門框、汽車后備箱，汽車車頂蓋等各個方面。本套系統可以代替了傳統的加工方式，降低了模具投資，大大縮短了汽車制造商和零部件配套商的開發周期，提高加工效率和切割工件的精度，降低了生產成本，是汽車制造商和零部件配套商提高競爭力的有力工具。

機器人打印3D工作站六軸關節機器人，數字化焊接電源，推拉絲焊槍與防碰撞裝置、3D離線編程軟件、銑削減材系統、移動式煌接除塵器、3D柔性連接平臺、控制系統、防碰撞焊槍、移動煙塵凈化器、安全圍欄等組成一套智能3D增材制作機器人打印工作站，可廣泛用于有色金屬的3D成型打印及工藝試驗。滿足教學需求，方便實際應用的高配置型機器人3D接工作站。本工作站按照企業應用要求:標準?？旎O計，通過學習機器人工作站結構，配置選型、控制原理，PLC控制原理與編程，以及系統之間的通訊、3D打印工藝分析、工藝評定，工裝設計原則、機器人外部軸的添加與聯動。安全防護、1/0通訊、程序數據、程序編寫、硬件連接、通訊方式設定。掌握機器人編程操作、M參數設定、工裝設計基礎、變位機選型與通訊。適合中高職、本科院校自動化、焊接及材料成型類相關專業《金屬3D打印技術》、《工業機器人與控制技術》、《焊接自動化技術》《自動化技術》《金屬3D打印技術》等課程的實訓教學，提供機器人的編程、維護、焊接工藝的編制、工作站的項目設計及項目管理全方位實訓與工藝試驗論證。使用KRL結構模式設置可快速編寫打印程序。將零件的三維模型輸入到計算機3D打印制造軟件中，由軟件通過幾何層面的分析，確定增材制造的策略，數模分層切片，多種加工策略，包括增材和減材制造的交善時機，并生成多種加策路和加工代碼。

該設備是培訓數控機床上下料機器人操作技巧的一個工作站，通過它能夠了解機床上下料機器人系統的基本構成，學習掌握機器人在機床上下料的基本功能，包括由機器人上下料搬運、原材料倉儲、加工在線視覺檢測、成品庫倉庫、通訊、多工裝夾具快速切換等功能。該設備由上下料工業機器人、原材料倉庫、視覺檢測、成品倉庫、快換裝置等組成。

可以量產/n輔酶 Q10是細胞呼吸鏈中重要遞氫體，能激活細胞呼吸，加速產生ATP，是代謝的激活劑，又是細胞自身產生的天然抗氧劑，能抑制線粒體的過氧化。本項目開發了輔酶Q10納米載體技術，將光不穩定的護膚活性成分輔酶Q10置于納米載體，可以有效避免輔酶Q10遇光分解，并通過緩釋作用延長其作用時間；同時，納米載體形成的特殊的納米脂質液晶結構可以促進輔酶Q10透過皮膚角質層，使其作用于護膚靶部位—皮膚深層細胞，可以顯著發揮護膚活性成分護膚功效。研制新型的納米化妝品產品，將極大地提升我國化妝品產業的技術水平

項目探明了晶體應力是導致鈮酸鋰電光調Q開關溫度穩定性變差的根本原因，通過大幅消除應力提高了晶體消光比，并創造性地開發了“彈性裝配”技術，徹底解決了晶體裝配受力不均勻問題，大幅提高了電光調Q開關裝配后的溫度穩定性和激光輸出光斑質量。 一、項目分類 關鍵核心技術突破 二、成果簡介 南開大學在晶體理論、晶體生長以及器件制備等方面開展了三十余年的研究，中國電子科技集團公司第二十七研究所歷經五十余年，完成了大量激光系統研發的國家重大任務，雙方瞄準國家需求，共同開展了高溫度穩定性電光調Q激光系統的研發項目。本項目獲得了2012年天津市科技進步一等獎。 項目探明了晶體應力是導致鈮酸鋰電光調Q開關溫度穩定性變差的根本原因，通過大幅消除應力提高了晶體消光比，并創造性地開發了“彈性裝配”技術，徹底解決了晶體裝配受力不均勻問題，大幅提高了電光調Q開關裝配后的溫度穩定性和激光輸出光斑質量。以高性能電光調Q開關為核心技術，自主研發了滿足航空、航天、艦船以及國防等復雜環境下使用的系列高溫度穩定性激光系統產品，并實現批量穩定生產，單次高低溫試驗通過率高達90%以上。 2009年至2011年，本項目研發的激光產品實現了14121.6萬元的產值及8778.6萬元的利潤，以項目產品為核心系統的裝備大量應用于運載火箭測控、飛行器防撞及其它測量，為載人航天、探月工程、北斗衛星導航等國家重大工程的實施發揮了重要保障作用，同時也批量應用在國防領域，為國防安全做出了重要貢獻。

本發明公開了一種應用于監控視頻隱私保護的失真漂移補償方 法，包括：I 幀補償塊定位，以判定出 I 幀中哪些塊是需要進行補償的 塊，P 幀定補償塊定位，以判定出 P 幀中哪些塊是需要進行補償的塊， 獲取像素域補償信號和壓縮域補償信號，對其進行熵編碼并使之作為 補償塊的殘差數據，以使得非隱私區域畫面清晰無失真。本發明能夠 保證去除失真的同時不改變 I 幀塊幀內預測模式和 P 幀塊運動向量， 無需對視頻重新編碼，就可以去除

本發明公開來一種基于指令域分析的數控機床工作過程的 CPS 建模方法，包括如下步驟：(1)在數控機床執行工作任務前，確定事前 工作任務數據和事前制造資源數據；(2)采集數控機床工作過程中的內 部電控數據和外部傳感器數據，得到數控機床運行狀態數據、事中工 作任務數據以及事中制造資源數據；(3)將制造資源、工作任務作為輸 入，數控機床運行狀態作為輸出，在賽博空間建立相關映射關系，以 該映射關系作為數控機床工作過程的 CPS 模型，實現對數控機床工作 過程的 CPS 建模。本發明的方法通過制造資源數據和工

本發明公開了一種基于磁真空泄漏原理的漏磁檢測方法及其裝置。該方法為①將待檢測導磁構件磁化；②在上述被磁化的導磁構件外圍，剔除已有背景磁場，形成磁真空區域；③采用磁敏元件布置于磁真空區域，拾取無磁壓縮效應的缺陷漏磁場并轉化為電壓信號，如果電壓信號中存在突變，則說明待檢測導磁構件中存在缺陷，否則無缺陷。裝置采用穿過式線圈對被檢測導磁構件實施局部磁化，以便激發出該磁化區域內導磁構件上缺陷的漏磁場；在其內腔布置永磁體對，產生反向磁場與原背景磁場疊加抵消，形成磁真空區域以供缺陷的漏磁場泄漏擴散進來，同時消除由