|
搜索
搜 索
高等教育領域數字化綜合服務平臺
益生優良芽孢桿菌發酵關鍵技術研究開發與應用
益生芽孢桿菌因其獨特的優勢可用來制成新型、高效、低殘留的微生態制劑，廣泛應用于工業、農業、醫學等科學研究領域。目前，國內外益生芽孢桿菌產業化關鍵技術存在諸多問題。如：活菌數低、出芽率低、貨架期短、生產工藝研究不夠深入、產品穩定性差等。
項目組在完成系列國家及省部級項目基礎上，經過十幾年的研究，攻克了芽孢桿菌發酵集成技術，主要包括：N+誘變結合熒光探針追蹤，篩選出性狀優良的菌種；多階段發酵與高密度培養結合，大幅提高菌體密度、芽孢出芽率及菌體適應環境能力；構建圖像采集，發明新型反應器，進一步優化菌體生長條件；將反應分離耦合技術應用于發酵，解除發酵過程中產物對菌體生長及體內酶活力的抑制作用，實現高濃度的發酵、提高芽孢出芽率、降低產物分離能耗、簡化產物分離過程。
創新優勢：
項目組采用專利技術生產研發系列益生芽孢桿菌：蠟樣芽孢桿菌活菌數由2億cfu/g提高到8億cfu/g，符合市售要求并高于農用微生物菌劑國家標準(GB20287-2006)3倍以上；芽孢形成率達到了89.02%，比國內最高提高33.6%，發酵周期21天，比國內最短時間縮短38.2%；凝結芽孢桿菌活菌數由0.5億cfu/g提高到12億cfu/g；地衣芽孢桿菌活菌數由10億cfu/g提高到13億cfu/g。篩選出海藻糖、聚乙二醇400、吐溫80、谷氨酸鈉及甘油5種芽孢保護劑，延長芽孢半衰期45%以上，對菌體活性起到良好的保護效果。在示范區內應用，病害抑制率達89%。項目生產的蠟樣芽孢桿菌粉參照標準WS-10001-(HD-0902)-2002，檢驗為類白色粉末，干燥失重為3.3%，小于7.0%，異常毒性符合規定，霉菌小于10個/克，低于標準規定100個/克，未檢出控制菌，活菌數為731億/克，達到國家規定的質量檢測標準。
申請國家發明專利17項，授權14項；發表論文59篇，SCI收錄43篇；出版專著5部。
南京工業大學
2021-01-12
12V50W邁瑞L9389生化儀燈泡
產品詳細介紹12V50W邁瑞L9389生化儀燈泡category: Specialty volt: 12 amp: 4.17 watt: 50 base: GY9.5 - Prefocus, 2-pin; round 3.2mm & 2.4mm9.53mm centered, Ceramic Base(found on high voltage bulbs) glass: T12mm filament: C6 fil.res.: 2.88 ohm m.o.l.: 2.36 inch (59MM) l.c.l.: 1.31 inch (33MM) burn pos: burn lamp in ANY position i.lumens: 900 cp: 72 cri: 99 color temp: 3000 d.hours: 2000 notes: clear glassPartNo. Volts Amps Lumens CCT Burning Position Filament Type D MOL LCL Base Type L9389 12.00 4.17 900 3000 Any C-6 12 60.00 33.30 GY9.5 L9404 12.00 1.67 300 2900 Any C-6 11 55.00 30.30 GY9.5
東莞市毅邁光源照明有限公司
2021-08-23
教創賽專家報告薈萃② | 復旦大學高等教育研究所教授副所長陸一：形具而神生——大學通識課程教學質量的關鍵所在
只有真正促進學生精神氣質的轉變，使本科教育面貌煥然一新并形成新的傳統，才能說通識教育產生了效果。
高等教育博覽會
2025-09-26
電沉積低溫燒結制備氧化物薄膜和微疊層技術
本技術可以獲取各種單一氧化物和多元氧化物納米薄膜，以及疊層氧化物納米薄膜。可用于提高金屬的抗腐蝕性能以及獲得多種特殊功能，如鐵電性能、磁性能、電致變色、化學催化、超導、光電轉換等。 本技術可以獲得Mg、Ca、Sr、Ba、Y、La、Ce、Yb、Ti、Zr、Hf、Ta、Cr、W、Mo、Mn、Fe、Co、Ni、Ir、Pd、Cu、Zn、Cd、Al、In、Si、Sn、Pb等元素的單一氧化物或它們的多元氧化物納米薄膜，厚度<0.2um。氧化物薄膜質量優于溶膠凝膠法，厚度均勻，根據需要可以控制厚度膜。先后沉積不同的氧化物薄膜可以獲得疊層氧化物納米薄膜。制備過程簡單，重現性好是本技術的優勢。
北京科技大學
2021-04-11
低成本制備高效硅薄膜太陽電池關鍵技術研發
南開大學 1978 年在國內率先開展非晶硅材料及其電池的研究，該技術獲得天津市技術發明二等獎。自“六五”至“九五”期間，連續 4個五年國家科技攻關計劃，獲科技部重點攻關和天津市科委的支持，經過 20 余年潛心研發，硅基薄膜太陽電池性能躋身世界先進行列。于 2003 實現非晶硅電池產業化。 2000 年始，在國內率先開展新一代硅薄膜電池的研究。2007 年，該成果實現技術轉移生產。 2009 年，研制成功我國首套基于自主專利技術的、襯底面積0.79m2、線列式 5 室連續 VHF-PECVD 系統及相應中試生產線及其組件制造技術。成為國際上為數不多可開展大面積新一代硅基薄膜太陽 電池研究的單位。 2011 年，開發出年產能 2 兆瓦、具有自主知識產權的、我國首條年產能 2 兆瓦的非晶硅/非晶硅鍺/微晶硅疊層電池生產線及其組件生產技術。生產出的太陽電池組件效率達 9.59%，將新一代硅薄膜電池技術推向產業化。
南開大學
2021-02-01
低成本制備高效硅薄膜太陽電池關鍵技術研發
南開大學 1978 年在國內率先開展非晶硅材料及其電池的研究，該技術獲得天津市技術發明二等獎。自“六五”至“九五”期間，連續 4 個五年國家科技攻關計劃，獲科技部重點攻關和天津市科委的支持， 經過 20 余年潛心研發，硅基薄膜太陽電池性能躋身世界先進行列。 于 2003 實現非晶硅電池產業化。 2000 年始，在國內率先開展新一代硅薄膜電池的研究。2007 年， 該成果實現技術轉移生產。 2009 年，研制成功我國首套基于自主專利技術的、襯底面積 0.79m2、線列式 5 室連續 VHF-PECVD 系統及相應中試生產線及其 組件制造技術。成為國際上為數不多可開展大面積新一代硅基薄膜太 陽電池研究的單位。 2011 年，開發出年產能 2 兆瓦、具有自主知識產權的、我國首條 年產能 2 兆瓦的非晶硅/非晶硅鍺/微晶硅疊層電池生產線及其組件生 產技術。生產出的太陽電池組件效率達 9.59%，將新一代硅薄膜電池 技術推向產業化。
南開大學
2021-04-11
一種激光濺射法制備CsPbBr3薄膜的方法
本發明闡述了一種激光濺射法制備CsPbBr3薄膜的方法。具體步驟為：先通過DMF、DMSO、環己醇、PbBr2、CsBr材料以溶液加熱方法制備出足量的CsPbBr3單晶并壓成靶材，再采用脈沖激光沉積薄膜制備技術：調整激光能量和基底溫度，通過激光脈沖數控制薄膜厚度，真空沉積制備CsPbBr3薄膜。本發明利用脈沖激光沉積技術制備CsPbBr3薄膜，可實現均勻大面積薄膜的便捷制備，易于有效控制薄膜厚度并且節約材料，有利于該材料在太陽能電池的工業化生產與應用。
東南大學
2021-04-11
碲化鎘薄膜太陽電池的產業化制造技術
本成果包含如下內容：高轉換效率的小面積碲化鎘太陽電池制造技術，面積為1200mm×600mm 的碲化鎘太陽電池組件規模化生產技術，年產30-50MW碲化鎘太陽電池生產線及關鍵設備的設計。 主要技術指標： 組件效率超過12%。 應用范圍： 用于太陽能直接發電，建立大規模光伏電站或小型戶用光伏發電系統。國家扶持光伏發電系統的建設，每年新建在10GW以上。由于是薄膜太陽電池，出口不會受到限制。 項目目前已進入產業化階段，成果權屬為我校獨自擁有。
四川大學
2021-04-11
一種柔性碲化鎘薄膜太陽電池制造方法
一種柔性碲化鎘薄膜太陽電池結構，本項發明所屬領域為新型 能源。為了降低碲化鎘太陽電池的成本，擴大電池的應用范圍，柔性 碲化鎘太陽電池將是未來發展方向之一。柔性碲化鎘電池面臨的難題 之一是如何解決金屬背電極與碲化鎘薄膜歐姆接觸，即尋找一種材 料，加入到金屬電極與碲化鎘薄膜之間，有利于p載流子傳輸。本發 明是采用石墨烯作為碲化鎘層與金屬電極層的過渡層，充分利用石墨 烯載流子傳輸速度高、力學性能好的特點。將結晶石墨進行化學清洗， 用帶膠的聚酰亞胺薄膜剝離石墨，使得一層石墨烯粘附于聚酰亞氨表 面。在此基礎上再濺射沉積碲化鎘，惰性氣體保護下CdCl2退火，濺 射沉積硫化鎘和ITO薄膜。制作出的柔性碲化鎘薄膜電池具有重量 輕、成本低的優點。
四川大學
2021-04-11
借助石墨烯實現Si(100)襯底上單晶GaN薄膜的外延生長
北京大學物理學院寬禁帶半導體研究中心沈波和楊學林課題組與俞大鵬、劉開輝課題組合作，成功實現了Si(100)襯底上單晶GaN薄膜的外延生長，相關工作于2019年7月23日在Advanced Functional Materials上在線刊登 [doi.org/10.1002/adfm.201905056]。 GaN基寬禁帶半導體具有帶隙大、擊穿電場高、飽和電子漂移速度大等優異，能夠滿足現代電子技術對高溫、高頻、高功率等性能的要求，對國家的高技術發展和國防建設具有重要意義。由于缺乏天然的GaN單晶襯底，GaN基半導體材料和器件主要在異質襯底上外延生長。因具有大尺寸、低成本及易于集成等優點，Si襯底上外延GaN成為近年來學術界和產業界高度關注的熱點領域。 目前用于GaN外延生長的Si襯底主要是Si(111)襯底，其表面原子結構為三重排列，可為六方結構的GaN外延提供六重對稱表面。然而，Si(100)襯底是Si集成電路技術的主流襯底，獲得Si(100)襯底上GaN外延薄膜對于實現GaN器件和Si器件的集成至關重要。但Si(100)表面原子為四重對稱，外延生長時無法有效匹配；同時Si(100)表面存在二聚重構體，導致GaN面內同時存在兩種不同取向的晶疇。迄今國際上還未能實現標準Si(100)襯底上單晶GaN薄膜的外延生長。圖 Si(100)襯底上單晶GaN薄膜的外延生長 沈波和楊學林課題組創造性地使用單晶石墨烯作為緩沖層，在Si(100)襯底上實現了單晶GaN薄膜的外延生長，并系統研究了石墨烯上GaN外延的成核機理和外延機制。該突破不僅為GaN器件與Si器件的集成奠定了科學基礎，而且對當前國際上關注的非晶襯底上氮化物半導體外延生長和GaN基柔性器件研制具有重要的指導價值。
北京大學
2021-04-11