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低輻射玻璃就是在玻璃表面形成一層低輻射薄膜。這層薄膜對可見光有較高的透過率，一般超過50%，而對室溫下黑體輻射峰值波長10 ?m附近的遠紅外線有很低的輻射系數，或稱發射系數、發射率等。這樣就可以保證室內熱量不會通過輻射傳遞的室外，也可在夏季阻止室外高溫通過輻射傳遞到室內。配合以中空、真空玻璃和隔熱窗框，可以達到節能效果。      幾乎所有的透明導電膜都是低輻射膜，如常用的ITO（氧化銦錫）、AZO（摻鋁氧化鋅）、SnO2等。在可見光波段，光吸收非常小的Ag膜也可以構成低輻射膜，但需要在前后表面增加介質膜，抵消光反射。      按工藝技術，低輻射玻璃又分為離線鍍膜和在線鍍膜兩類。在線鍍膜指的是在浮法玻璃生產線的末端，增加一個CVD室，利用玻璃的高溫使得氣體分解形成一層氧化錫透明導電薄膜。氧化錫的輻射系數大約為0.2左右，遠低于普通白玻璃的0.87。在線鍍膜低輻射玻璃由于輻射系數高、透過率低、反射和透過光顏色調整范圍小等因素，只能用在要求低的場合。其優點是抗氧化能力超強，而且耐磨性能好，可單層應用，國內在線鍍膜低輻射玻璃生產線有數十條。離線鍍膜低輻射玻璃指的是采用磁控濺射方法，在玻璃表面形成一層低輻射金屬膜和相應的保護介質膜。這種低輻射玻璃的輻射系數低，可見光透過率高，顏色可以隨意調整，因此得到廣泛應用。離線鍍膜低輻射玻璃的基本結構        常溫下，黑體輻射的中心波長約10?m。在這個波長下，絕大部分金屬的輻射系數都是非常低的，如Ag/Cu/Au/Al/Mo/W/Ta/Nb/Zr/Ni/Fe，都可以用到太陽能集熱管中的低輻射層。能用于玻璃中的卻只有Ag，因為只有Ag有很小的可見光吸收率。降低輻射系數的簡單方法是增加銀層厚度，但簡單的增大銀層厚度會導致可見光反射率大幅度增加。離線雙銀低輻射玻璃的結構      中間介質層較厚，兩側較薄，這就構成了雙銀低輻射玻璃。再增加一層銀，還可以構成三銀低輻射玻璃。由于銀的折射率實部不是零，銀層是有吸收的，銀層雙銀和三銀低輻射玻璃的輻射系數雖低，但光的透過率卻大幅度降低。離線單銀軟膜結構      最早的低輻射玻璃結構，以氧化鋅為介質層，其最大特點是，沉積速率快。因為折射率較低，可見光透過譜窄，一般采用雙銀結構來擴大譜寬。抗氧化能力低，須要24小時內封成中空結構。離線單銀硬膜結構      第二代低輻射玻璃，特點是，采用等離子噴涂導電低價氧化物靶，靶材成本高。折射率高，可見光透過譜寬，單銀就可以滿足要求。采用雙銀或三銀結構的效果更好，但透過率低得多，不適合民居。抗氧化能力較低低，也須要24小時內封成中空結構，基本不能鋼化。      為了防止在上層氧化鈦沉積中銀層氧化，需增加一層約3nm的金屬層，可用Cr或Ni等。該金屬層使得輻射系數和透光率指標大幅度降低。可異地加工和鋼化的硬膜結構      較晚出現的結構，采用SiAl靶反應濺射沉積，沉積速率與低價氧化鈦靶相近。因為是非晶結構，抗氧化能力強，可以異地封接和鋼化處理，也可非中空應用。高硅硅鋁靶需要等離子體噴涂制備，成本高。透光譜性能和損耗相互矛盾，總體光學性能比氧化鈦結構差。鋁和硅都不能與氮氣直接反應，氮氣被電子碰撞后形成原子氮，可與鋁或硅反應，這就要求氣氛中氮含量很高，結果氮氣電離比例較高，使得靶表面氮化，導致濺射速率大幅度降低，需要增加靶數，導致設備成本提高，電源功率提高。可異地加工和鋼化的另一種結構      特點：最外面增加一層抗氧化的SiAlO，10納米就足夠了。金屬靶反應濺射      采用純金屬靶進行反應磁控濺射是降低成本的最有效方法。在已知的常用金屬中，鋅族、釩族中的鉭、鈦族中的鉿、鉻族、錳族、鐵族進行磁控反應濺射時，具有可以接受的速度，但其中只有氧化鉭和氧化鋅具有較好的耐壓和介電特性。氧化鉭的濺射產額可達到0.2，是可以接受免得。而具有很好絕緣和介電特性的氧化硅、氧化鋁、氧化鎂，氧化鋯以及具有最大介電常數和折射率的氧化鈦都難以用磁控反應濺射沉積。氮化硅產額可以達到0.12，尚可接受，但氧化硅只有0.03，約為硅的二十分之一。氧化鈦和氧化鋁都小于0.015，不到金屬鋁的百分之一，氧化鎂更是小于0.005，不到鎂的千分之一。各種材料的濺射產額 材料產額Ti0.6  (600V)TiO20.01 (300V)AI1.25 (600V)Al2O30.01 (300V)Si0.5  (600V)SiO20.03 (300V)Si3N40.12 (300V)      濺射沉積時，單質靶電壓較高，而氧化物和氮化物靶電壓較低，電壓基本按實際情況列出。濺射過程      靶材為低價氧化鈦，因此濺射氣氛中需要的氧氣含量低得多，靶表面濺射面積遠小于襯底面積，因此一般不繼續氧化，被濺射粒子以原子或分子形式飛向襯底，氧氣分子可以向靶和襯底入射，將到達襯底的粒子充分氧化。       硅鋁靶濺射中，正氮離子飛向靶面，將靶面氮化。被濺射粒子大部分以分子或原子形式飛向襯底。被濺射出的硅原子不能在空中與氮結合，大部分到達襯底后再與氮原子結合。由于硅和鋁不能與氮分子反應，因此靶面必須完全氮化才能得到純氮化物薄膜，導致濺射速率變慢。硅鋁靶的另一個問題是高硅硅鋁靶需要等離子噴涂方法制備，靶材成本遠高于金屬靶。拉制成型的合金靶材中，硅含量難以超過60%。高鋁組分的硅鋁靶濺射非常慢，而且折射率低，不能用于低輻射玻璃的制備。解決低硅含量硅鋁靶的濺射沉積問題是一個大的挑戰。         靶材為純鈦，被濺射粒子大部分已原子形式飛向襯底，氧氣分子可以向靶和襯底入射，分別將靶面和到達襯底的粒子氧化。金屬表面形成的氧化鈦極難濺射，導致沉積速率極慢。低輻射玻璃面臨的難題       到目前為止，低輻射玻璃，尤其是高檔低輻射玻璃主要用于賓館、寫字樓、醫院中。這類建筑中，單窗面積較大，窗框所占面積比例小，低輻射玻璃效果明顯。此類建筑所需的玻璃呈現逐年縮減的趨勢。擴大民居領域的應用，才是正路。民居的特點是單窗面積小，一般不會超過1平米，一般0.5平米。這種窗中，低輻射玻璃的節能效果并不明顯，只有大幅度降低價格，才能與效果匹配。世界性難題       大面積襯底上，氧化鎂、氧化鋁、氧化鈦等材料的金屬靶反應磁控濺射被認為是一個解決不了的世界性難題，早已經沒人嘗試解決，轉而尋求一些替代方法，如前面所述。       第一個解決該問題的人是我們，可追朔的上世紀80年代，但結果一直沒有發表。首先發表此類結果的是皇明公司，他們解決了在高溫集熱管表面沉積氧化鋁減反層問題，而且速度非常高。解決此問題的是一個剛出校門不久的女孩兒，初生牛犢不怕虎，硬試出來的。最初是嘗試用鋁靶反應濺射沉積氮化鋁，從原理上講，這是不可能的。氮化鋁不行，就用氧化鋁試試，結果就成功了。雖然減反射效果不如氮化鋁，但可以用。集熱管太陽能吸收膜沉積中，靶基距非常大，這是其成功的基本條件。由于不懂得其中的道理，僅限于在太陽能集熱管這一特殊條件下應用，而不能推廣到其它領域。圓柱形金屬靶反應濺射的優勢       如果能實現鈦、鋯、鋁、硅等薄膜的金屬圓柱靶反應磁控濺射，對薄膜產業的影響是革命性的，帶來的好處包括：      （1）圓柱靶適合大面積襯底上薄膜沉積，適用于大規模生產。      （2）采用金屬靶的成本遠低于導電介質靶，構成降低成本的次要因素。      （3）可實現高速濺射沉積，設備規模減小，大幅度降低設備成本，是降低成本的首要因素。      （4）大幅度降低用電量，構成降低成本的次要因素。

該產品由我揚州大學以張瑞宏教授為首的團隊經過十年的努力，攻克了許多技術難關，已完成了中試。 2005 年最終實現關鍵工藝上有所突破，特別是側邊封頭工藝及一次性封接法在世界上處于領先地位，可大大簡化生產工藝，大大降低生產成本。目前，根據揚州大學的生產工藝生產的真空平板玻璃可將其成本控制在 100 元/m2 左右。

產品詳細介紹各種規格的玻璃儀器

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產品詳細介紹BY題詞單反玻璃詞 進口超薄介質光學玻璃 規格（8/15/17/19/21/寸） 單面清晰無虛影， 四邊防震超薄膜 工作溫度30-60度均可，玻璃厚度2mm 不宜在90℃

產品詳細介紹水熱合成反應釜 本水熱合成釜采用優質不銹鋼加工而成。釜體與釜蓋密封采用耐用、可靠的線密封結構，密封效果長期穩定無泄漏。釜蓋緊固結構采用均置螺栓、并輔以釜體定位裝置，以利合成釜的開啟與密閉。本水熱合成釜采用外加熱方式，以縮小體積，并有利多反應釜處于同一反應操作溫度（如將多個反應釜置于烘箱中加熱）。 -------------------------------------------------------------------------------- 儀器介紹 用途: 水熱合成釜是為在一定溫度、一定壓力條件下合成化學物質提供的反應器。它廣泛應用于新材料、能源、環境工程等領域的科研試驗中，是高校教學、科研單位進行科學研究的常用小型反應器。 水熱合成反應釜 型號 外材質 內膽材質 容量ml 安全溫度范圍℃ 最高壓力值 HCF-25 304不銹鋼 聚四氟乙烯 25 室溫～220 3MpaG HCF-50 304不銹鋼 聚四氟乙烯 50 室溫～220 3MpaG HCF-100 304不銹鋼 聚四氟乙烯 100 室溫～220 3MpaG HCF-150 304不銹鋼 聚四氟乙烯 150 室溫～220 3MpaG HCF-200 304不銹鋼 聚四氟乙烯 200 室溫～220 3MpaG HCF-500 304不銹鋼 聚四氟乙烯 500 室溫～220 3MpaG HCF-1000 304不銹鋼 聚四氟乙烯 1000 室溫～220 3MpaG 業生產水熱合成反應釜歡迎訂購水熱合成釜水熱反應釜高壓水熱反應釜價格水熱合成釜的指標水熱合成反應釜圖片大量批發水熱合成反應釜。 （予華和長城都是我們的合作伙伴）

產品詳細介紹升降翻轉實驗室反應釜該磁力驅動反應釜的釜體采用高強度不銹鋼制成，因而除具備普通磁力反應釜的特點外，還具有觀察反應直觀、控制反應準確、設備輕巧、操作便捷等特點。該反應釜深受大專院校的師生以及化工實驗操作者的喜愛。升降翻轉實驗室反應釜是我公司近年來研制的新產品，它綜合了國內外高壓釜的優點，具有外型美觀、結構緊湊、操作方便等特點，釜體與釜蓋間采用快開蓋結構，短時間內便可打開；釜蓋上設有手搖旋轉結構，可繞水平線旋轉大于 120 角度，便于清洗釜內殘物。該產品投放市場以來，深受廣大科研人員的喜愛，是目前國內最為理想的化學試驗裝置。實驗室用反應釜，升降翻轉反應釜是專為全國大專院校、科研單位、研究所研究和開發新產品而設計出的一種小型反應釜。實驗室反應釜的設計理念是安全可靠、小巧精致、使用方便。該反應釜系氣 -- 液、液 -- 液、液 -- 固或氣 -- 液 -- 固三相化工物料進行化學反應的攪拌反應裝置，可使各種化工物料在較高的壓力和溫度下充分攪拌，以強化傳質和傳熱過程。升降翻轉實驗室反應釜產品規格及技術參數 :型號GSH-0.5A  GSH-1A  GSH-2A  GSH-3A公稱容積 L0.5         1       2       3工作壓力 MPa10-20     10-20   10-20   10-20工作溫度 ℃300        300     300     300攪拌轉速 r/min0-750     0-750   0-750   0-750電機功率 W123        200     200     200加熱功率 KW0.8         1      1.5      2加熱方式電         電       電      電控制儀配有自動溫度調節儀，控溫精度 ±1℃ ；具有轉速顯示及無級調速功能，加熱功率可調，能實現自動恒溫的目的。

產品詳細介紹實驗室冷凝回流反應釜采用環形稀土永磁耦合驅動器，攪拌力矩大，具有靜密封、無泄漏的特點。  反應釜釜體材料主要采用 1Cr18NI9Ti 不銹鋼 ，并可根據不同介質要求制作鈦材（ TA2 ）、聚四氟乙xi襯套及襯鎳（Ni6) 。 反應釜攪拌軸承采用自潤滑耐磨軸套，適合于各種介質的攪拌。同時可以按客戶要求制成連續裝置以及外盤管形式．供用戶訂貨時選用。 該系列產品具有運轉平穩 、噪音小、操 作方便等特點，是實驗室進行各種化學反應的理想裝置 。成套實驗室反應釜系統也叫連續實驗反應釜裝置，是根據用戶所提供的有關反應參數而特別設計、制造的專用裝置，能滿足用戶在生產和實驗過程中的全部要求。它有一臺及多臺反應釜組成，由反應釜控制儀集中控制，也可與計算機相連，實現遠程操作，并在計算機上顯示各種數據及曲線。反應連續、操作方便。加熱方式：電加熱，水循環，導熱油，蒸汽，遠紅外線加熱等。攪拌軸：采用自潤滑耐磨軸套，適合于各種介質的攪拌。攪拌形式：槳式，錨式，框式，推進式，螺帶式，渦輪式，布爾馬金式等。密封方式：磁力密封，機械密封，填料密封。電機：電機為普通直流電機，或者一般采用直流伺服電機，亦可根據用戶要求采用防爆電機。主要材料：釜體材料主要采用0Cr18Ni9（304），00Cr17Ni14Mo2(316L)，1Cr18Ni9Ti（321），并可根據不同介質要求制作鈦材（TA2），鎳及鎳合金，鉭材，鋯材，哈氏合金（C-276，C-22，B-2），反應釜內噴四氟（PTFE）及襯鎳（Ni6）。設計水平先進，嚴格控制質量，受到一致好評。本公司供應實驗室用反應釜,成套實驗室反應釜系統，品牌匯鑫，型號GSH。質量保證，歡迎咨詢洽談。實驗室冷凝回流反應釜是專為全國大專院校、科研單位、研究所研究和開發新產品而設計出的一種小型反應釜。實驗室反應釜的設計理念是安全可靠、小巧精致、使用方便。該反應釜系氣 -- 液、液 -- 液、液 -- 固或氣 -- 液 -- 固三相化工物料進行化學反應的攪拌反應裝置，可使各種化工物料在較高的壓力和溫度下充分攪拌，以強化傳質和傳熱過程。我公司將實驗用反應釜分為 GSH 系列 、 升降翻轉系列、快開式反應釜系列、 連續實驗反應釜、 冷凝回溜反應釜 。實驗室冷凝回流反應釜采用環形稀土永磁耦合驅動器，攪拌力矩大，具有靜密封、無泄漏的特點。實驗用反應釜釜體材料主要采用 1Cr18NI9Ti 不銹鋼，并可根據不同介質要求制作鈦材（ TA2 ）、聚四氟乙烯襯套及襯鎳（ Ni6) 。攪拌軸承采用自潤滑耐磨軸套，適合于各種介質的攪拌。實驗用反應釜出料方式有上出料和下出料兩種，供用戶訂貨時選用。該系列產品具有運轉平穩、噪音小、操作方便等特點，實驗用反應釜是實驗室進行各種化學反應的理想裝置。