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目前主流的抗菌膜制備方法是在基膜表面接枝抗菌物質(zhì)，常用的抗菌材料包括氧化石墨烯、碳納米管、抗菌聚合物、金屬離子等，但這些材料普遍存在著接枝方式復雜，且對環(huán)境有危害的缺陷。相比而言，季銨鹽類抗菌劑具有抗菌效果好，環(huán)境友好等特點，目前水溶性的小分子或高分子季銨鹽抗菌劑已經(jīng)廣泛應用于水處理、食品、醫(yī)療衛(wèi)生和包裝材料等領域。然而，將季銨化合物直接接枝到膜表面所制備的抗菌膜仍存在制備流程復雜，成本較高等問題，這也使得目前開發(fā)的大部分季銨鹽功能膜無法大規(guī)模應用于實際水處理系統(tǒng)。因此，為解決以上問題，開發(fā)新型親水抗菌功膜的制備方法是目前業(yè)內(nèi)所亟需的。 本成果中提出的制備方法將氯甲基化聚合物制備為中空纖維多孔膜，并制作為管殼式膜組件，之后采用過濾操作模式直接將叔胺化合物接枝到組件中的中空纖維膜絲上，從而制備出具有優(yōu)良抗菌性能的季銨化功能膜組件。該制備方法簡單便捷，且接枝穩(wěn)定性高，適合長期大規(guī)模應用于實際膜法水處理體系中，且制備的超濾膜具有良好的親水性和抗菌性?？咕ぶ苽浜唵伪憬?，常溫常壓過濾操作即可完成接枝，且接枝穩(wěn)定性高，成本低，對水體中微生物去除率99.9%以上，尤其能抑制微生物在膜上（內(nèi)外表面，孔道壁面）生長。 圖1.性能參數(shù)

主要技術指標 （1）．工作溫度：≤500℃ （2）．工作壓力：≤20MPa（表壓） （3）、規(guī)格；25、50、100、200、500、800ml。另可根據(jù)用戶需求定做。 （4）.操作方法                   1、高壓水熱合成反應釜用全不銹鋼材料，外殼材質(zhì)為304材質(zhì)。 2、高壓水熱合成反應釜使用溫度在500度以下，500度以下；工作壓力≤20MPa 3、高壓水熱合成反應釜采用硬密封的原理，不會泄漏。 4、高壓水熱合成反應釜使用時將法蘭上的螺栓松開，溶液杯取出溶液裝入杯中，然后放在釜體內(nèi)，將上蓋密封槽與杯體上密封球面裝在一起，注意：把緊螺栓時要對立面把緊，用力要均勻。不要一次性將任何一個螺栓把緊，當對立面螺栓均勻用力把緊時，再用力將所有螺栓對面把緊，方可進行操作升溫。 5、高壓水熱合成反應釜當溫度達到要求時，準備取出溶液杯將螺栓對立面均勻松開，不允許一次性將任何一個螺栓全松開，那樣會損傷上蓋密封槽和杯體上端密封面。 6、高壓水熱合成反應釜注意保護杯體上端密封球面，不能有磕、碰傷，或其它污物。 7、高壓水熱合成反應釜使用時注意清理上蓋密封槽內(nèi)的雜物，不能有污物和雜質(zhì)，如不清理干凈使用時會泄漏。 8、高壓水熱合成反應釜上蓋外端中心帶有密封絲堵，它是用來檢驗溶液杯密封進氣試壓接口。日?；蚴褂眠^程中，不要將它打開，防止泄漏。 9、高壓水熱合成反應釜在使用過程中，如有泄漏現(xiàn)象返廠修復。   有下列情形的，不在保修范圍。 （1）釜體磕、碰變形或嚴重損傷。 （2）溶液杯體上端密封球面有磕、碰傷痕 （3）釜體上蓋密封槽有磕、碰劃傷等。

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陳溫福院士團隊孟軍教授課題組在生物炭-微生物協(xié)同治理抗生素污染方面取得新進展

鄭州水熱合成反應釜（HZ-100ML） 1.用   途     水熱合成反應釜是為在一定溫度、一定壓力條件下合成化學物質(zhì)提供的反應器。它廣泛應用于新材料、能源、環(huán)境工程等領域的科研試驗中，是高校教學、科研單位、化工實驗室進行科學研究的常用小型反應器。   2．特    點       水熱合成反應釜采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼加工而成。內(nèi)膽為聚四氟乙烯材質(zhì)。外形美觀、使用方便。釜體與釜蓋擰緊即可起到密封作用、密封效果長期穩(wěn)定無泄漏。       水熱合成反應釜采用外加熱方式，以縮小體積，并有利多反應釜處于同一反應操作溫度（如將多個反應釜置于烘箱中加熱）。   3．主要技術指標   （1）．工作溫度：≤220℃   （2）．工作壓力：≤3MPa   （3）．升溫、降溫速率：≤5℃/min   （4）.規(guī)格25ml，50ml，100ml，200ml、500ml、800ml、1000ml、2000ml、5000ml另可根據(jù)用戶需求（溫度、外形）定做。   4.  操作方法       將反應物系指與釜體內(nèi)，并保證加料系數(shù)小于0.8。當反應物系有腐蝕性時要將其置于四氟襯套內(nèi)，方可保證釜體不受腐蝕。   水熱合成反應釜置于加熱器內(nèi)，按照規(guī)定的升溫速率升溫至所需反應溫度（小于規(guī)定的安全使用溫度）。待反應結(jié)束將其降溫時，也要嚴格按照規(guī)定的降溫速率操作，以利安全和反應釜的使用壽命。當確認腹內(nèi)溫度低于反應物系種溶劑沸點后方能打開釜蓋進行后續(xù)操作。