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基于導(dǎo)電油墨、紙基襯底和高精度印刷工藝等多個(gè)方面進(jìn)行研究，通過(guò)印刷可實(shí)現(xiàn)在紙基上制備RFID電子標(biāo)簽。首先，RFID電子標(biāo)簽采用印刷電子技術(shù)“增材”方式，一方面增材制造本身減少了原材料浪費(fèi)，減少了因腐蝕而形成的污染排放；另一方面，印刷工藝大多沒(méi)有高溫制備環(huán)節(jié)，節(jié)省了能源，減少了碳排放。其次，印刷電子技術(shù)可以大面積與批量化制造，傳統(tǒng)印刷技術(shù)已經(jīng)可以在數(shù)米寬的材料表面通過(guò)高速連續(xù)卷對(duì)卷方式印刷報(bào)紙或印染布匹，同樣方法也適用于印刷RFID天線，因此降低單個(gè)RFID標(biāo)簽的成本。最后，RFID電子標(biāo)簽基材是紙

“培養(yǎng)基雖不是細(xì)胞培養(yǎng)中唯一重要因素，但確實(shí)是最重要的一種。” ——Wurm博士，瑞士聯(lián)邦科技學(xué)會(huì)生物工藝學(xué)教授 《Genetic Engineering News》（2005） 本公司所使用的總部研發(fā)生產(chǎn)的獨(dú)特培養(yǎng)基，克服大部分市售無(wú)血清培養(yǎng)基導(dǎo)致的細(xì)胞活性差、貼壁性差以及分泌外源蛋白的能力差等缺點(diǎn)。多層培養(yǎng)瓶的表面作為細(xì)胞生長(zhǎng)層，是由透氣不透水的聚苯乙烯制成，保證細(xì)胞得到更充分的氣體交換，獲得的細(xì)胞更健康、活力更強(qiáng)。并采用獨(dú)特的細(xì)胞生長(zhǎng)的培養(yǎng)條件，大大提高了細(xì)胞的吸附性和生長(zhǎng)速度。 目前國(guó)內(nèi)市場(chǎng)主要有無(wú)血清培養(yǎng)基和有血清培養(yǎng)基兩種。 精準(zhǔn)醫(yī)療治療中需要生物試劑，所以在使用過(guò)程中對(duì)試劑要求極其嚴(yán)格。就細(xì)胞培養(yǎng)方面中，其精準(zhǔn)源頭就是培養(yǎng)基?，F(xiàn)在國(guó)內(nèi)乃至國(guó)際上所有廠家所生產(chǎn)的培養(yǎng)基都含有人血白蛋白，這就極不符合精準(zhǔn)醫(yī)療的要求。因?yàn)槿搜椎鞍资菑娜梭w血液中提取，其中所含的成分不夠明確，使用有人血白蛋白的培養(yǎng)基培養(yǎng)細(xì)胞可能會(huì)出現(xiàn)基因突變、出現(xiàn)不穩(wěn)定等一系列問(wèn)題。而我公司攻克了這一點(diǎn)，總部研發(fā)生產(chǎn)的培養(yǎng)基既無(wú)血清也無(wú)動(dòng)物源蛋白，這在全球是第一家。

一種納米晶氮碳化鈦陶瓷超細(xì)粉的高溫碳氮化反應(yīng)制備法,以納米氧化鈦和納米碳黑為原料,工藝步驟依次為配料、混料、干燥、裝料、高溫碳氮化、球磨、過(guò)篩。此法工藝簡(jiǎn)單,成本較低,較一般碳熱還原法節(jié)約能源,容易實(shí)現(xiàn)規(guī)?；I(yè)生產(chǎn)。通過(guò)控制反應(yīng)溫度、保溫時(shí)間、氮?dú)鈮毫?或流量)、碳鈦配比等工藝因素可以合成各種氮含量的氮碳化鈦納米晶超細(xì)粉。用此法制備的氮碳化鈦粉末為球形,分散性較好,平均粒度為100～200NM,平均晶粒度為20～50NM,純度達(dá)99%以上。

小試階段/n本發(fā)明解決六方氮化硼制備工藝復(fù)雜、生產(chǎn)周期長(zhǎng)原料毒性大和不易規(guī)?；a(chǎn)的技術(shù)問(wèn)題。本發(fā)明具有生產(chǎn)周期短、工藝簡(jiǎn)單、適宜工業(yè)化規(guī)模生產(chǎn)的特點(diǎn)，所制備的六方氮化硼粉體純度和結(jié)晶度顯著高于現(xiàn)有方法制備的六方氮化硼粉體。本發(fā)明處于待轉(zhuǎn)化階段，應(yīng)用范圍廣闊，市場(chǎng)前景可觀，預(yù)期經(jīng)濟(jì)效益優(yōu)異。

目前傳統(tǒng)消毒技術(shù)有諸多缺點(diǎn)：紫外消毒由于紫外光光譜會(huì)殺死健康細(xì)胞，對(duì)人眼和其他器官也是危險(xiǎn)的，所以其滅菌場(chǎng)所不能有人進(jìn)入，大大限制了其應(yīng)用范圍。傳統(tǒng)的二氧化鈦催化劑由于禁帶寬度3.2ev，也只能受紫外光激發(fā)有效，大大限制了其應(yīng)用；臭氧消毒易分解，其滅菌場(chǎng)所不能有人進(jìn)入，對(duì)人眼和其他器 官具有危害；酒精、84消毒劑由于揮發(fā)不具有持續(xù)消毒能力，需要經(jīng)常噴灑，另外存在著使用不當(dāng)引起的火災(zāi)、中毒等風(fēng)險(xiǎn)。 課題組研發(fā)的氮化碳g-C3N4功能復(fù)合膜制備可解決述痛點(diǎn)，該項(xiàng)技術(shù)具有可提高膜的親水性、提高膜的水通量、賦予膜光催化性能、賦予膜自清潔性能和抗菌性等特點(diǎn)。

本發(fā)明公開(kāi)了一種石墨相氮化碳薄膜修飾電極的制備方法。在 保護(hù)氣氛下，首先 450℃～550℃加熱氮化碳原料 1min～6h，使得氮化 碳原料氣化后附著于耐熱載體表面，并形成氮化碳前驅(qū)體；然后 500℃～550℃加熱附著有氮化碳前驅(qū)體的耐熱載體 1min～6h，使得氮 化碳前驅(qū)體氣化并在導(dǎo)電基底表面形成厚度為 10nm～150nm 的石墨 相氮化碳薄膜，獲得所述修飾電極。本發(fā)明通過(guò)利用氣相沉積的方法 在導(dǎo)電基底表面修飾

太赫茲（THz）科學(xué)技術(shù)既是重大的基礎(chǔ)科學(xué)問(wèn)題，也是國(guó)家的重大需求。然而，作為一段全新的的電磁波譜，實(shí)現(xiàn)THz波傳輸與控制的相關(guān)器件極為匱乏，大大限制了THz科學(xué)技術(shù)的發(fā)展及應(yīng)用。本項(xiàng)目提出了THz波物質(zhì)探測(cè)、低損傳輸、高速控制的新理論和新技術(shù)，研制出多種實(shí)用化THz功能器件。本項(xiàng)目的主要成果包括：(1) 提出了THz波吸收的理論模型，研制出吸收率達(dá)到85%以上的窄帶、多帶和寬帶太赫茲吸收材料，解決了傳統(tǒng)電磁波吸收材料無(wú)法有效工作于THz頻段的技術(shù)難題；(2)提出“人工電磁結(jié)構(gòu)”與“電子功能材料”相結(jié)合構(gòu)建可調(diào)諧太赫茲功能器件的思想，研制出開(kāi)關(guān)速率達(dá)到0.1ms的太赫茲開(kāi)關(guān)、調(diào)制速率達(dá)到10Mbps的太赫茲波調(diào)制器，帶內(nèi)透射達(dá)到80%的太赫茲帶通濾波器，以及高效太赫茲功率衰減器；（3）基于高阻Si的深能級(jí)摻雜技術(shù)和石墨烯二維晶體材料，研制出寬帶太赫茲波空間調(diào)制器，開(kāi)關(guān)速率達(dá)到5MHz，空間調(diào)制面積達(dá)到3英寸，為提高太赫茲成像速率和分辨率奠定了基礎(chǔ)；(4)提出極化約束實(shí)現(xiàn)太赫茲波導(dǎo)低損耗傳輸?shù)男赂拍睢；凇熬酆衔锟招静▽?dǎo)”與“周期性金屬光柵結(jié)構(gòu)”的集成，研制出一種雙面光柵聚合物空芯波導(dǎo)實(shí)現(xiàn)了單模的傳輸,大幅度降低太赫茲傳輸損耗到0.68dB/m，達(dá)到了實(shí)用化的要求。 這一研究成果既加深了對(duì)THz波譜特性和基本物理現(xiàn)象的理解，也解決了THz傳輸、控制、波譜識(shí)別和應(yīng)用成像的多個(gè)關(guān)鍵科學(xué)問(wèn)題。本項(xiàng)目成果的實(shí)施，可望實(shí)現(xiàn)載波300GHz以上高速無(wú)線通信，為太赫茲波無(wú)線通信、雷達(dá)探測(cè)、醫(yī)療診斷以及以及波譜成像等應(yīng)用系統(tǒng)提供了重要的技術(shù)支撐。在Appl. Phys. Lett., Sci. Rep., Opt. Lett., Optics Express, J. Opt. Soc. Am.等國(guó)際主流期刊上發(fā)表SCI 論文66 篇。申請(qǐng)國(guó)家發(fā)明專利22 項(xiàng)，已授權(quán)專利7 項(xiàng)，獲得教育部自然科學(xué)一等獎(jiǎng)1項(xiàng)。跟國(guó)內(nèi)外綜合比較，本項(xiàng)目的研究成果總體上處于國(guó)際先進(jìn)水平，對(duì)推動(dòng)太赫茲科學(xué)快速進(jìn)入實(shí)際應(yīng)用領(lǐng)域具有重要的科學(xué)意義。

本項(xiàng)目提出了THz波物質(zhì)探測(cè)、低損傳輸、高速控制的新理論和新技術(shù)，研制出多種實(shí)用化THz功能器件。