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本發明公開了一種基于指令域分析的數控加工工藝參數動態優 化方法，包括： (1)設置采樣的加工狀態信息和加工程序指令序列信息， 并相應配置形成加工信息動態采集界面；(2)實時采集獲取實際加工數據，并利用正余弦算子對采集的數據進行迭代平滑處理，并提取濾波 處理后信號的特征值； (3)根據當前行加工的 G 指令和/或刀位軌跡類型 在工藝系數數據庫中選擇確定優化系數；(4)利用上述步驟獲取的特征 值以及優化系數，建立優化模型，據此計算當前合理的工藝參數，從 而實現對加工工藝參數的動態優化。本發明的方法以指令域分析為基 礎，可以實現對數控系統工藝參數快速優化，實現與插補周期同步， 最大程度實現數控系統加工質量與效率的提升。 

一、 項目簡介與電磁場相比，永磁體不消耗任何的水和電，無噪聲干擾，有利于降低運行成本和保護生態環境，在國民經濟各個領域均得到廣泛應用。課題組于1992年開始對永磁磁場數值求解方法及應用進行研究，2006年主持完成了國家“863計劃”課題“單晶生長用永磁磁體的研制與產業化”。二、 項目技術成熟程度在永磁磁場數值求解方法方面，分別采用矢量磁位和標量磁位對二維、三維永磁磁場進行了有限元分析，編寫了相應的永磁磁場數值分析軟件包，實現了對永磁磁場的二維、三維磁場分析及磁場分布顯示；采用場路耦合方法對永磁體充磁過程進行了動態分析，確定了充磁電路參數和磁路參數對永磁材料剩磁的影響規律。三、 技術指標（包括鑒定、知識產權專利、獲獎等情況）近年來獲河北省科技進步二、三等獎各1項；完成和承擔國家“863計劃“項目1項，國家自然科學基金項目2項，省部級項目2項；出版專著2本，發表論文10余篇，其中大部分被SCI、EI檢索；申請專利5項。 運行中的環形永磁體     自控永磁可變磁場裝置

研究團隊擁有可進行污染物分析的氣質聯用儀和塵螨分析儀，可對室內 VOC采樣柱、灰塵取樣等進行 SVOC、VOCs、苯系物、塵螨等過敏原進行分析。

研究團隊成員具有豐富的綠色建筑認證服務經驗和 LEED 認證服務經驗（LEED-AP 資質）。根據《綠色建筑評價標準》GB50378-2014 和各省級標準評價綠色建筑星級達標水平（一星級、二星級和三星級），幫助業主向住房和城鄉建設部申請綠色建筑星級認證；評審過程中，需要對建筑項目的性能進行全面模擬，以確定各項得分值。研究團隊通過專業綠色建筑模擬軟件，為業主、設計和咨詢單位提供全方位的綠色建筑模擬評價服務并出具全套模擬報告，如： （1）室外風環境模擬報告 （2）自然通風模

多通道記錄分析裝置按照虛擬儀器設計，由筆記本計算機及信號調理采集箱組成。能對多路電量進行連續記錄，系統具有完善的測量分析功能，能對記錄的電量進行時域和頻域的全面測量分析。特別適用于電器裝置投切動態過程和隨機過程的測量分析。 有效值測量誤差：＜0.5% 最大值/最小值測量誤差：＜0.5% 波形系數測量誤差：＜1% 諧波測量誤差：＜3% 綜合畸變率測量誤差：＜1%

項目簡介：對政府部門來說， 他們高度關注的是那些最有可能給社會輿論和國家安全帶來災難性后果

產品詳細介紹該儀器已獲國家專利，專利號ZL 2009 0039640.8。產品介紹:       熱重分析法（TG、TGA）是在升溫、恒溫或降溫過程中，觀察樣品的質量隨溫度或時間的變化，目的是研究材料的熱穩定性和組份。廣泛應用于塑料、橡膠、涂料、藥品、催化劑、無機材料、金屬材料與復合材料等各領域的研究開發、工藝優化與質量監控。 測量與研究材料的如下特性:熱穩定性、分解過程、吸附與解吸、氧化與還原、成份的定量分析、添加劑與填充劑影響、水份與揮發物、反應動力學。 技術參數:1. 溫度范圍: 室溫~1150℃2. 溫度分辨率: 0.1℃3. 溫度波動: ±0.1℃4. 升溫速率: 1~80℃/min5. 溫控方式: 升溫、恒溫、降溫6. 冷卻時間: 15min        (1000℃…100℃)7. 天平測量范圍: 1mg～2g ,可擴展至30g8. 靈敏度: 0.01mg9. 恒溫時間: 0～300min     任意設定10.顯示方式: 漢字大屏液晶顯示11.氣氛裝置: 內置氣體流量計，包含兩路氣體切換和流量大小控制   (氣氛:惰性、氧化性、還原性、靜態、動態) 12.軟件: 智能軟件可自動記錄TG曲線進行數據處理、打印實驗報表13.數據接口: 標準USB接口，專用軟件（軟件不定期免費升級）14.電源: AC220V   50Hz15.外觀尺寸: 489*400*343mm（長寬高）卞舒芹15312021471

本項目應用成果導向教育理念（Outcome-Based Education，OBE），配合學校逐步形成 OBE 管理模式，為學校構建從生源質量、過程質量到結果質量的全面質量監測與分析報告體系。成果導向的質量監測體系為學校教學與質量管理、二級院系和教師考核、專業建設和專業調整以及院校評估、專業認證提供數據支撐與管理分析報告。

產品詳細介紹■適用范圍及特點：    盛華TQ-3碳氫元素測定儀用于測定煤和其它有機物中的“碳”和“氫”的元素的含量。被測試樣在高溫條件下與氧氣流中燃燒生成水和二氧化碳，用吸水劑和二氧化碳吸收劑分別吸收，根據吸收劑的增重計算出碳和氫的百分含量。準確度符合GB/T476的要求。

產品詳細介紹真空原位分析表征系統是為紅外光譜吸附態表征和催化劑酸性測定設計的專用真空系統，配有石英紅外吸收池，可以與Bruker、Nicolet、PE、Shimadzu、Jasco、Varian\Bio-Rad等主要紅外光譜儀連接使用，進行氨、吡啶、一氧化碳、一氧化氮、甲醇、乙醇等小分子化合物的化學吸附測定。具體應用吸附態研究和催化劑的表征　　紅外光譜已經廣泛應用于催化劑表面性質的研究，其中最有效和廣泛應用的是研究吸附在催化劑表面的所謂“探針分子”的紅外光譜， 如：NO、CO、CO2、NH3、C3H5N等，, 它可以提供在催化劑表面存在的“活性中心”信息。用這種方法可以表征催化劑表面暴露的原子或離子, 更深入地揭示表面結構的信息。與其它方法相比較, 這樣的紅外研究所獲得的信息只限于探針分子（或反應物分子）可以接近或勢壘所允許的催化劑工作表面。? CO吸附態研究　　由于CO具有電子受授性質，未充滿的空軌道很容易同過渡金屬相互作用。CO同許多重要的催化反應有密切關系。如羰基合成、水煤氣合成、氧化等。并且具有很高的紅外消光系數。因此, 在過渡金屬表面吸附態的研究是一個十分廣泛的研究課題。? 雙金屬原子簇催化劑的研究（紅外光譜方法研究催化劑表面組成和相互作用）利用兩種氣體混合物吸附在雙組元過渡金屬催化劑上通過紅外光譜側其吸附在不同組元上吸收帶強度的方法可以測定雙金屬載體催化劑的表面組成。例如：CO和NO混合氣吸附在Pt-Ru/SiO2上的紅外光譜測定Pt-Ru/SiO2催化劑的表面組成。催化劑紅外酸性測定? 氧化物表面酸性的測定　　酸性中心一般看作是氧化物催化劑表面的活性中心。在催化裂化、異構化、聚合等反應中烴類分子和表面酸性中心相互作用形成正碳離子, 是反應的中間化合物。正碳離子理論可以成功地解釋烴類在氧化物表面上的反應, 也對酸性中心的存在提供了強有力的證明。為了進一步表征固體酸性催化劑的性質, 需要測定表面酸性中心的類型（L酸、B酸）、強度和酸量。利用紅外光譜研究表面酸性常常利用氨、吡啶、三甲基胺、正丁胺等堿性吸附質, 其中應用比較廣泛的是吡啶和氨利用紅外光譜研究固體酸。? 氧化物表面羥基的研究? 紅外光譜應用于反應于反應動態學研究? 催化劑原位表征高真空系統解決的問題　　由于紅外光譜方法本身存在一定的局限性。　　1) 利用透射方法研究載體催化劑, 由于大部分載體低于1000cm, 就不透明了,所以很難獲得這一范圍的許多重要信息。　　2) 金屬粒子不同的暴露表面邊、角、階梯、相間界面線等,分子吸附在所有這些中心上的光譜都可對測得的光譜有貢獻, 因而解釋起來有困難。　　3) 由于催化反應過程中, 在催化劑表面上反應中間物濃度一般都很低,壽命很短（尤其是反應活性的承擔者）, 紅外光譜的靈敏度和速度不夠高。　　4) 紅外光譜只適用于有紅外活性的物質。　　隨著光譜技術的發展, 這些局限性將通過真空系統克服。系統基本情況　　一套用于催化劑原位表征的真空裝置及紅外原位測量系統，配備紅外吸收池統。 提高真空系統的性能使其在較短的時間內達到測量需要的中高真空度。主要技術指標　　1. 樣品處理開始后樣品池中真空度應在30 分鐘內達到10-5 Torr；　　2. 樣品測量過程中各樣品可同時或分別進行吸附或脫附探針分子；　　3. 由于測量所需探針分子為酸性或堿性分子，高硼硅玻璃材質避免了相互污染；　　4、真空處理系統由機械泵與玻璃四級擴散泵串聯組合抽氣，達到客戶對測試池中高真空的要求，抽速快，體積小,低噪音，操作簡單，使用方便的特點,并且價格適中。　　5、低真空部分主要是抽出系統中的高濃度氣體或吸附的殘余氣體。　　6、各部分節門選用高硼硅玻璃節門，滿足系統高真空的要求，透明性操作，便于調試。　　7、真空測量儀使用數顯高精密真空計。　　8、本系統配備透過式石英紅外吸收池，采用透射模式，可對樣品進行陪燒、流動氧化還原、抽空脫氣、吸附反應等處理過程，可隨時移入或移出到紅外光譜儀的光路中進行實驗，也可利用配備的延長管路進行原位表征和實驗。其加熱方式可采用程序升溫方法控制溫度的升降，也可使用調壓變壓器對溫度的升降進行控制，使用溫度可以高達450度，標準配置的吸收池窗口為CaF2，工作區間為4000—1200波數之間，用戶也可按照需要自性配置其他材料的窗口。　　9. 樣品測量過程中各樣品可同時或分別進行預處理、吸附、脫附探針分子或更換樣品。　　10. 波紋管更換方便。　　11．為滿足客戶的要求真空系統可做相應改變。配置單序號 設備名稱 數量高真空裝置 1.1 機械泵 1 1.2 玻璃油擴散泵 1 1.3 真空計 1 1.4 壓力規表頭 1 1.5 吸附阱、冷卻室、管道、真空工作架、玻璃節門、電控標準連接件等 1測量系統 2.1 石英樣品池 1 2.2 溫控裝置 1 2.3 操作手冊 1