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產品詳細介紹 OTM-650 數控加工中心   DK7732 電火花數控線切割機床   觸摸屏數控電火花成型機   SYHC-850 數控加工中心   XK7132SD 數控銑床（生產型）   XK7132數控銑床（生產型）   BC-XK0824 數控銑床（教學/生產兩用型）   BC-CK6150 數控車床（教學/生產兩用型）   BC-CK6130 數控車床（教學/生產兩用型）   BC-CK0635 數控車床(教學/生產兩用型)   BC-CK0620 數控車床（教學/生產兩用型）   BC-XK5025型立式升降臺數控銑床   BC-240數控銑床(教學生產兩用型)   BC-125A教學型數控銑床   BC-6136型透明數控車床   BC-6135型 液晶數控車床(透明教學數控車床)   XK125教學(生產兩用)型數控銑床   BC-6132（教學/生產兩用型）數控車床   BC-CNC6140型數控車床（教學生產兩用型）   BC-6136型透明數控車床                BC-6136型數控車床是本公司最新研制的教學科研用數控機床。該機床是典型的機電一體化產品，除采用穩定可靠的華興車床用數控系統外，硬件配置更具有相當的剛性、強度及制造精度；同時，其外形美觀大方，主軸箱蓋及防擴體均采用時口有機透明材料制作而成，使機床主要內部結構及傳動線路一目了然，是各相關科研院所、高職學校及技術學校理想的實驗設備。采用四工位自動回轉刀架，通過編輯對各種軸尖，盤類等塑料零件能自動完成任務，如外圓術柱面、圓錐面、圓弧面、螺紋等工件的綠切削加工，并能進行切槽、鉆孔等工作。 一、特點     1、穩定可靠的華興專用車床數控系統；     2、全自動四工位數控回轉刀架，能滿足較復雜零件的刀具使用要求；     3、縱、橫向精密滾珠絲杠進給，混合式步進電機驅動，重復定位精度高，轉矩大；     4、采用高級變頻調速電機驅動主軸，實現無級調速，保證切削線速度穩定；     5、操作方便舒適，符合現代人機工程學優化思想；     6、車削PVC材料時，采用空氣（風）冷卻，保持工作環境清潔，無工業污染；     7、外型美觀大方，彰顯實驗場所品質。 二、用途  1、相關專業科研院所對現代加工（數控及CAD/CAM）技術研究的實踐驗證；  2、各類高等院校及中級技術學校的數控技術應用，機電一體化及自動控制專業學生的綜合實驗；  3、各類高等院校及中級技術學校的機制、模具及其他相關專業數控技術的課堂輔助教學和教學實訓；  4、開展數控機床結構及控制原理、數控編程及機床操作、CAC/CAM等專業課程專項培訓。 三、數控系統主要功能  1、國內唯一一家從外置到內核均與日本FANUC全面兼容的系統；  2、之系統采用硬件插補技術，快進速率可達12米/分；  3、具有程序記憶和預讀功能，提前譯碼，使機床加工平滑流暢；  4、控制精度高，脈沖當量為1u(0.001mm)；  5、有串行RS232通訊接口功能，可與計算機聯機通訊；  6、采用電子齒輪比，簡化傳動結構，提高機床工作精度；  7、系統具有軟、硬件限位，保證工作安全；  8、采用多層印刷電路板技術，表貼技術，門陣技術等，使性能更優越，運行更可靠。 四、車床主要技術參數 產品說明：   三爪卡盤 ￠ 160mm 床身上最大回轉直徑 ￠ 360mm 最大工件長度 430mm 電動刀架 四工位 主軸轉速、無級變速 100～1500rpm 主電動機功率 0.75KW 機床外形尺寸（長、寬、高） 1800×980 ×  1520mm 機床凈重 BC-MW1320 萬能外圓磨床   BC-M7130平面磨床   BC-GT428金屬帶鋸床   BC-T68數顯鏜床   BC-Z3040 搖臂鉆床   BC-B6050牛頭刨床   JH-300型微型普通車床   JH-400型微型普通車床   BC-6130型普通車床   BC-1332型普通車床   BB25-1多功能工具機小型車床   普通模擬機床類   CA6140型普通教學車床（透明）   BC-3X數顯普通銑床   BC-C6132A普通車床   BC-C6140A普通車床

低輻射玻璃就是在玻璃表面形成一層低輻射薄膜。這層薄膜對可見光有較高的透過率，一般超過50%，而對室溫下黑體輻射峰值波長10 ?m附近的遠紅外線有很低的輻射系數，或稱發射系數、發射率等。這樣就可以保證室內熱量不會通過輻射傳遞的室外，也可在夏季阻止室外高溫通過輻射傳遞到室內。配合以中空、真空玻璃和隔熱窗框，可以達到節能效果。      幾乎所有的透明導電膜都是低輻射膜，如常用的ITO（氧化銦錫）、AZO（摻鋁氧化鋅）、SnO2等。在可見光波段，光吸收非常小的Ag膜也可以構成低輻射膜，但需要在前后表面增加介質膜，抵消光反射。      按工藝技術，低輻射玻璃又分為離線鍍膜和在線鍍膜兩類。在線鍍膜指的是在浮法玻璃生產線的末端，增加一個CVD室，利用玻璃的高溫使得氣體分解形成一層氧化錫透明導電薄膜。氧化錫的輻射系數大約為0.2左右，遠低于普通白玻璃的0.87。在線鍍膜低輻射玻璃由于輻射系數高、透過率低、反射和透過光顏色調整范圍小等因素，只能用在要求低的場合。其優點是抗氧化能力超強，而且耐磨性能好，可單層應用，國內在線鍍膜低輻射玻璃生產線有數十條。離線鍍膜低輻射玻璃指的是采用磁控濺射方法，在玻璃表面形成一層低輻射金屬膜和相應的保護介質膜。這種低輻射玻璃的輻射系數低，可見光透過率高，顏色可以隨意調整，因此得到廣泛應用。離線鍍膜低輻射玻璃的基本結構        常溫下，黑體輻射的中心波長約10?m。在這個波長下，絕大部分金屬的輻射系數都是非常低的，如Ag/Cu/Au/Al/Mo/W/Ta/Nb/Zr/Ni/Fe，都可以用到太陽能集熱管中的低輻射層。能用于玻璃中的卻只有Ag，因為只有Ag有很小的可見光吸收率。降低輻射系數的簡單方法是增加銀層厚度，但簡單的增大銀層厚度會導致可見光反射率大幅度增加。離線雙銀低輻射玻璃的結構      中間介質層較厚，兩側較薄，這就構成了雙銀低輻射玻璃。再增加一層銀，還可以構成三銀低輻射玻璃。由于銀的折射率實部不是零，銀層是有吸收的，銀層雙銀和三銀低輻射玻璃的輻射系數雖低，但光的透過率卻大幅度降低。離線單銀軟膜結構      最早的低輻射玻璃結構，以氧化鋅為介質層，其最大特點是，沉積速率快。因為折射率較低，可見光透過譜窄，一般采用雙銀結構來擴大譜寬。抗氧化能力低，須要24小時內封成中空結構。離線單銀硬膜結構      第二代低輻射玻璃，特點是，采用等離子噴涂導電低價氧化物靶，靶材成本高。折射率高，可見光透過譜寬，單銀就可以滿足要求。采用雙銀或三銀結構的效果更好，但透過率低得多，不適合民居。抗氧化能力較低低，也須要24小時內封成中空結構，基本不能鋼化。      為了防止在上層氧化鈦沉積中銀層氧化，需增加一層約3nm的金屬層，可用Cr或Ni等。該金屬層使得輻射系數和透光率指標大幅度降低。可異地加工和鋼化的硬膜結構      較晚出現的結構，采用SiAl靶反應濺射沉積，沉積速率與低價氧化鈦靶相近。因為是非晶結構，抗氧化能力強，可以異地封接和鋼化處理，也可非中空應用。高硅硅鋁靶需要等離子體噴涂制備，成本高。透光譜性能和損耗相互矛盾，總體光學性能比氧化鈦結構差。鋁和硅都不能與氮氣直接反應，氮氣被電子碰撞后形成原子氮，可與鋁或硅反應，這就要求氣氛中氮含量很高，結果氮氣電離比例較高，使得靶表面氮化，導致濺射速率大幅度降低，需要增加靶數，導致設備成本提高，電源功率提高。可異地加工和鋼化的另一種結構      特點：最外面增加一層抗氧化的SiAlO，10納米就足夠了。金屬靶反應濺射      采用純金屬靶進行反應磁控濺射是降低成本的最有效方法。在已知的常用金屬中，鋅族、釩族中的鉭、鈦族中的鉿、鉻族、錳族、鐵族進行磁控反應濺射時，具有可以接受的速度，但其中只有氧化鉭和氧化鋅具有較好的耐壓和介電特性。氧化鉭的濺射產額可達到0.2，是可以接受免得。而具有很好絕緣和介電特性的氧化硅、氧化鋁、氧化鎂，氧化鋯以及具有最大介電常數和折射率的氧化鈦都難以用磁控反應濺射沉積。氮化硅產額可以達到0.12，尚可接受，但氧化硅只有0.03，約為硅的二十分之一。氧化鈦和氧化鋁都小于0.015，不到金屬鋁的百分之一，氧化鎂更是小于0.005，不到鎂的千分之一。各種材料的濺射產額 材料產額Ti0.6  (600V)TiO20.01 (300V)AI1.25 (600V)Al2O30.01 (300V)Si0.5  (600V)SiO20.03 (300V)Si3N40.12 (300V)      濺射沉積時，單質靶電壓較高，而氧化物和氮化物靶電壓較低，電壓基本按實際情況列出。濺射過程      靶材為低價氧化鈦，因此濺射氣氛中需要的氧氣含量低得多，靶表面濺射面積遠小于襯底面積，因此一般不繼續氧化，被濺射粒子以原子或分子形式飛向襯底，氧氣分子可以向靶和襯底入射，將到達襯底的粒子充分氧化。       硅鋁靶濺射中，正氮離子飛向靶面，將靶面氮化。被濺射粒子大部分以分子或原子形式飛向襯底。被濺射出的硅原子不能在空中與氮結合，大部分到達襯底后再與氮原子結合。由于硅和鋁不能與氮分子反應，因此靶面必須完全氮化才能得到純氮化物薄膜，導致濺射速率變慢。硅鋁靶的另一個問題是高硅硅鋁靶需要等離子噴涂方法制備，靶材成本遠高于金屬靶。拉制成型的合金靶材中，硅含量難以超過60%。高鋁組分的硅鋁靶濺射非常慢，而且折射率低，不能用于低輻射玻璃的制備。解決低硅含量硅鋁靶的濺射沉積問題是一個大的挑戰。         靶材為純鈦，被濺射粒子大部分已原子形式飛向襯底，氧氣分子可以向靶和襯底入射，分別將靶面和到達襯底的粒子氧化。金屬表面形成的氧化鈦極難濺射，導致沉積速率極慢。低輻射玻璃面臨的難題       到目前為止，低輻射玻璃，尤其是高檔低輻射玻璃主要用于賓館、寫字樓、醫院中。這類建筑中，單窗面積較大，窗框所占面積比例小，低輻射玻璃效果明顯。此類建筑所需的玻璃呈現逐年縮減的趨勢。擴大民居領域的應用，才是正路。民居的特點是單窗面積小，一般不會超過1平米，一般0.5平米。這種窗中，低輻射玻璃的節能效果并不明顯，只有大幅度降低價格，才能與效果匹配。世界性難題       大面積襯底上，氧化鎂、氧化鋁、氧化鈦等材料的金屬靶反應磁控濺射被認為是一個解決不了的世界性難題，早已經沒人嘗試解決，轉而尋求一些替代方法，如前面所述。       第一個解決該問題的人是我們，可追朔的上世紀80年代，但結果一直沒有發表。首先發表此類結果的是皇明公司，他們解決了在高溫集熱管表面沉積氧化鋁減反層問題，而且速度非常高。解決此問題的是一個剛出校門不久的女孩兒，初生牛犢不怕虎，硬試出來的。最初是嘗試用鋁靶反應濺射沉積氮化鋁，從原理上講，這是不可能的。氮化鋁不行，就用氧化鋁試試，結果就成功了。雖然減反射效果不如氮化鋁，但可以用。集熱管太陽能吸收膜沉積中，靶基距非常大，這是其成功的基本條件。由于不懂得其中的道理，僅限于在太陽能集熱管這一特殊條件下應用，而不能推廣到其它領域。圓柱形金屬靶反應濺射的優勢       如果能實現鈦、鋯、鋁、硅等薄膜的金屬圓柱靶反應磁控濺射，對薄膜產業的影響是革命性的，帶來的好處包括：      （1）圓柱靶適合大面積襯底上薄膜沉積，適用于大規模生產。      （2）采用金屬靶的成本遠低于導電介質靶，構成降低成本的次要因素。      （3）可實現高速濺射沉積，設備規模減小，大幅度降低設備成本，是降低成本的首要因素。      （4）大幅度降低用電量，構成降低成本的次要因素。

該產品由我揚州大學以張瑞宏教授為首的團隊經過十年的努力，攻克了許多技術難關，已完成了中試。 2005 年最終實現關鍵工藝上有所突破，特別是側邊封頭工藝及一次性封接法在世界上處于領先地位，可大大簡化生產工藝，大大降低生產成本。目前，根據揚州大學的生產工藝生產的真空平板玻璃可將其成本控制在 100 元/m2 左右。

產品詳細介紹各種規格的玻璃儀器

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產品詳細介紹BY題詞單反玻璃詞 進口超薄介質光學玻璃 規格（8/15/17/19/21/寸） 單面清晰無虛影， 四邊防震超薄膜 工作溫度30-60度均可，玻璃厚度2mm 不宜在90℃

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XM-XWA多功能高仿真透明訓練洗胃模型 ? 功能特點： ■ 模型為成人上半身，解剖結構精確，口腔內有牙、舌、懸雍垂、呼吸道聲門、會厭、喉等解剖結構，具有氣管、支氣管、左右肺臟、心臟、食管、胃、膈、肝臟、膽囊、胰腺以及小腸、結腸等結構。 ■ 透明材料制成，可全程觀察胃管進出胃腔的過程、胃管頭端的位置、灌洗液在胃腔內的沖洗情況。 ■ 模型一側頰部設有透明示教區域，可清晰準確的見到口腔及懸雍垂、呼吸道聲門、會厭、喉等解剖結構。 ■ 標準的臨床操作，符合真實臨床操作及教學需求。 ■ 模型帶旋轉支架可擺放不同角度的體位（左側臥位、端坐位、仰臥位等），頭部可旋轉，并可向一側旋轉45°。 ■ 中切牙距賁門距離在45-55cm范圍內，當胃管插入時均會顯示每到一個關鍵解剖部位的提示：賁門、胃體、幽門、十二指腸并以亮燈體現，對操作者有教學引導性作用。 ■ 瞳孔示教：在控制設備上可根據操作的需求設置瞳孔的狀態，瞳孔可根據設置的病情性質轉變：瞳孔散大、瞳孔縮小、瞳孔正常，可按照演示有機磷中毒的病情來轉變瞳孔變化等生命跡象。 ■ 頸動脈搏動：在控制設備上可根據操作的需求設置頸動脈的狀態，頸動脈可根據設置的病情性質轉變：頸動脈搏動、頸動脈搏動停止。 ■ 可進行洗胃練習：經口鼻洗胃器洗胃法、電動吸引洗胃法、胃管洗胃法、洗胃機洗胃法。 ■ 可訓練胃腸減壓術、胃液采取術、十二指腸引流術。?? ■ 雙氣囊三腔管壓迫術、鼻飼、氧氣吸入、口腔護理、經口經鼻吸痰術及氣管切開護理等操作。