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EV-400高真空金屬有機蒸發鍍膜機 真空腔室：前開門真空腔體，方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發材料以及真空室的日常維護保養； 真空系統：國產分子泵作為主抽泵，真空極限優于5.0?10-5Pa（經烘烤除氣后）；另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限優于3.0?10-6Pa（經烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 蒸發源：4～6組歐美技術金屬或是有機束源爐蒸發源可選，多源共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定； 蒸發電源：真空專業蒸發電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能； 基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉，轉速0～20r/min連續可調； 基片臺功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀； 可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。

MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：直徑450?H400mm，1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，前開門結構； 真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）； 極限真空：優于5?10-5Pa（經烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 升降基片臺：2～6英寸基片臺，靶基距60～120mm連續在線自動可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至500℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能； 磁控靶：直徑3英寸2～4只（可升級成直徑4英寸靶2～3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 質量流量計：2～3路工藝氣體，可根據工藝要求增加； 膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。

北京維意真空技術應用有限責任公司，原名北京科立方真空技術應用有限公司，創立于2013年6月，主體經營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分，是北京從事真空產品設計、制造、銷售、維修、保養于一體的性的公司，公司擁有一支、產品技術工程師和維修技術工程師，具有豐富的行業經驗。        公司于2016年初至2017年末，陸續投入大量研發資金，針對等離子增強化學氣象沉積設備、原子層沉積設備和高低溫真空探針臺設備，以及附屬配件進行了系統、深入的研發、改進工作。竭盡所能滿足高校、研究所的教學、科研使用，同時減少相關進口設備的市場占有率，并力爭創造外匯，打出中國創造的名牌!        我們的客戶遍布國內各高校和研究院所、部分軍工單位和電力試驗所、各級的材料、物理、化學、納米等研究領域的實驗室，期待您就是我們的下一位客戶、朋友!        您的滿意微笑是我們一直努力追求的經營目標!        維意真空，為您服務，唯你成就是我們的宣傳口號!        技術創新、服務誠信是我們一直遵循的經營理念!        我們熱誠歡迎國內外先進的儀器制造商及科學工作者與我們聯系開展各層面的合作,打造成的真空系統產品、等離子體增強化學氣相沉積設備、原子層沉積設備和高低溫真空探針臺設備供應商。

MS-246小型多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；升降基片臺：尺寸直徑100mm，高度60～120mm可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能；磁控靶：直徑2英寸2只（可升級成3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材；濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；質量流量計：10sccm、50sccm質量流量控制器各1套；膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。

EV-246小型電阻蒸發鍍膜機真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；基片臺：可拆卸式，尺寸60?60mm，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能）；蒸發源及電源：水冷銅電極3組，逆變式蒸發電源，功率2KW，配源間防污隔板；膜厚監控儀：采用國產或進口膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。

SEV-400手套箱金屬有機蒸發鍍膜機 真空腔室：采用立式方形結構，前門為水平滑開式，位于手套箱體內部，前開門便于蒸發材料和樣片在保護環境下裝卸，后開門便于真空室的清理維護（后門帶鎖緊裝置在充氣條件下保持腔室密閉與大氣環境隔離），整機位于手套箱體下面，節約占地面積； 真空系統：國產分子泵作為主抽泵，真空極限高達2.0?10-5Pa，另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限高達3.0?10-6Pa； 真空抽速：大氣～5?10-4Pa≤30min（手套箱環境中）； 基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板，基片臺公轉，轉速0～20r/min可調，襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm； 蒸發源及電源：4～6組歐美技術金屬或有機束源爐蒸發源可選，多元共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定；真空專業蒸發電源，恒流/恒功率控制，電流、功率可以預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能； 膜厚監控儀：采用國產或進口膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。