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利用等強(qiáng)度的偏振正交的雙色飛秒光場(chǎng)（800nm + 400nm），深入研究遂穿電子干涉的干涉動(dòng)力學(xué)，提出了利用新型的“時(shí)空電子干涉儀”，探測(cè)電子在遂穿過程中獲得勢(shì)壘下相位，揭示電子隧穿的動(dòng)力學(xué)信息。該工作利用先進(jìn)的冷靶反沖離子電子動(dòng)量成像譜儀（所謂COLTRIMS），清晰地測(cè)量了正交雙色光場(chǎng)下的光子周期內(nèi)干涉圖案。通過與理論模擬的對(duì)比 [強(qiáng)場(chǎng)近似（SFA）,庫侖修正的強(qiáng)場(chǎng)近似(CCSFA)和數(shù)值求解含時(shí)薛定諤方程（TDSE）]，揭示出了光電子勢(shì)壘下相位的對(duì)干涉圖案的貢獻(xiàn)。研究結(jié)果表明勢(shì)壘下相位蘊(yùn)藏著的電子隧穿動(dòng)力學(xué)信息，對(duì)光電子干涉和光電子全息起著不可或缺的作用。

項(xiàng)目簡(jiǎn)介： 本項(xiàng)目報(bào)道了一種具有抗大氣湍流能力的新型激光雷達(dá)， 主要利用相位鎖定方法對(duì)雷達(dá)系統(tǒng)發(fā)射單元進(jìn)行相位鎖定，通過大氣湍流對(duì)發(fā)射激光束相千性的影響及光束在大氣湍流中的傳輸特性：光束擴(kuò)展與漂移、傳輸因子、平均光強(qiáng)、偏振與相丁等來研究大氣湍流的 影響。并結(jié)合湍流理論研究大氣湍流參數(shù)如折射率結(jié)構(gòu)常數(shù)、湍流

北京大學(xué)“極端光學(xué)創(chuàng)新研究團(tuán)隊(duì)”發(fā)展了一種高精度的暗場(chǎng)光學(xué)成像定位技術(shù)(位置不確定度僅21 nm)，并結(jié)合電子束套刻工藝，實(shí)現(xiàn)了片上量子點(diǎn)微盤激光器與銀納米線表面等離激元波導(dǎo)的精確、并行、無損集成。這種微盤-銀納米線復(fù)合結(jié)構(gòu)同時(shí)具有介質(zhì)激光器與表面等離激元波導(dǎo)的優(yōu)勢(shì)，因此不僅具有介質(zhì)激光器的低閾值與窄線寬特性，而且具有表面等離激元波導(dǎo)的深亞波長(zhǎng)場(chǎng)束縛特性?；谶@種靈活、可控的制備方法，他們實(shí)現(xiàn)了片上微盤激光器與表面等離激元波導(dǎo)間多種形式的精確可控集成，包括切向集成、徑向集成以及復(fù)雜集成，并且對(duì)量子點(diǎn)無任何加工損傷；進(jìn)一步，通過同時(shí)集成多個(gè)片上微盤激光器與多個(gè)銀納米線表面等離激元波導(dǎo)，他們獲得了多模、單色單模以及雙色單模的深亞波長(zhǎng)(0.008λ2)相干輸出光源。這些高性能的深亞波長(zhǎng)相干輸出光源可以容易地耦合并分配至其它深亞波長(zhǎng)表面等離激元光子器件和回路中。因此，這種靈活、可控的精確集成方法在高集成密度的光子-表面等離激元復(fù)合光子回路中具有重要應(yīng)用，并且這種方法可以拓展到其它材料和其它功能的微納光子器件集成中，為未來光子芯片的實(shí)現(xiàn)提供了一種可行的解決方案。  該工作于2018年5月發(fā)表在Advanced Materials上(Advanced Materials 2018, 30, 1706546)，并以卷首插畫(Frontispiece)的形式予以重點(diǎn)報(bào)道。文章的第一作者為北京大學(xué)物理學(xué)院博士研究生容科秀，陳建軍研究員為通訊作者。該研究工作得到了國家自然科學(xué)基金委、科技部、人工微結(jié)構(gòu)和介觀物理國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室、量子物質(zhì)科學(xué)協(xié)同創(chuàng)新中心和極端光學(xué)協(xié)同創(chuàng)新中心等的支持。 圖1. 片上膠體量子點(diǎn)微盤激光器與銀納米線表面等離激元波導(dǎo)的精確、并行、無損集成。

本發(fā)明提出一種星載激光測(cè)高系統(tǒng)在軌檢校方法及系統(tǒng)，在現(xiàn)有的在軌檢校方法的基礎(chǔ)上，根據(jù)已 知地表先驗(yàn)?zāi)Ｐ停⑿禽d激光測(cè)高儀的測(cè)距模型；基于測(cè)距模型，建立系統(tǒng)誤差與測(cè)距殘差的關(guān)系； 利用實(shí)測(cè)距離值與測(cè)距模型計(jì)算距離值生成測(cè)距殘差，利用測(cè)距殘差實(shí)現(xiàn)了對(duì)測(cè)高系統(tǒng)系統(tǒng)誤差中的裝 配誤差及測(cè)距誤差的在軌檢校。本發(fā)明技術(shù)方案能夠很好地檢校系統(tǒng)誤差，避免了姿態(tài)機(jī)動(dòng)。 

徹底解決了傳統(tǒng)鑄造工藝的所有弊端和缺陷。

本發(fā)明公開了一種在液相中采用激光焊接制備納米復(fù)合材料的 方法，涉及納米復(fù)合材料制備技術(shù)領(lǐng)域。其包括：納米懸濁液制備步 驟，將納米顆粒狀的原材料均勻分散在液體媒介中，形成納米懸濁液； 激光焊接步驟，向所述納米懸濁液中引入設(shè)定波長(zhǎng)、設(shè)定功率的激光， 并持續(xù)設(shè)定時(shí)間，以執(zhí)行激光焊接，所述激光焊接過程中，持續(xù)攪拌 所述納米懸濁液；分離步驟，分離出執(zhí)行完激光焊接步驟的產(chǎn)物，干 燥獲得復(fù)合納米材料。本發(fā)明方法工作溫度低、反應(yīng)溫和

本項(xiàng)目利用激光熱噴涂法在噴涂過程中可實(shí)現(xiàn)構(gòu)成非晶涂層，應(yīng)用于海洋工程的長(zhǎng)效重防腐，解決了海洋工程裝備防腐蝕難題。本項(xiàng)目研發(fā)的激光熱噴涂防腐材料和相關(guān)的涂層封閉體系，獲得了非晶鋁涂層在相應(yīng)腐蝕體系下的耐蝕機(jī)理，技術(shù)先進(jìn)，無環(huán)境污染，是目前綠色制造領(lǐng)域提倡的具有前瞻性和前沿性的高新技術(shù)。主要關(guān)鍵技術(shù)：（1）激光熱噴涂非晶鋁涂層形成微晶和非晶質(zhì)材料抗腐蝕技術(shù)；（2）激光熱噴涂非晶鋁涂層表面完整性控制技術(shù)；（3）激光熱噴涂非晶鋁涂層與基體形成冶金結(jié)合抗沖蝕技術(shù)。 本項(xiàng)目擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的激光

激光打標(biāo)機(jī)和激光整形機(jī)可應(yīng)用于產(chǎn)品商標(biāo)制作及激光防偽應(yīng)用，也可應(yīng)用于薄材質(zhì)的切割,在各種金屬材料、有色塑料、晶體管、集成電路及各種工具、刃具上刻蝕各種字符、漢字和圖形?？捎糜诠?、鍺、砷化鎵和其他半導(dǎo)體襯底材料的劃片與切割。提供產(chǎn)品標(biāo)簽和防偽條形碼的設(shè)計(jì)和制作。同時(shí)，也用于對(duì)有機(jī)玻璃、膠合板、皮革、紙板等材料進(jìn)行圖文切割，也可以在各種金屬薄膜上進(jìn)行圖文切割。例如，我們利用該機(jī)器在各種厚度的硅片上進(jìn)行了打孔，最小孔徑達(dá)100微米；最大（厚度）深度為500微米。激光刻蝕技術(shù)應(yīng)