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縱向偏振激光束作為一種特殊光束，它的主要偏振態(tài)與光束的傳播方向一致， 這與傳統(tǒng)的麥克斯韋方程所描述的光的偏振態(tài)與它的傳播方向垂直相矛盾;該光 束的尺寸可以小于系統(tǒng) 0.5 波長衍射極限分辨率，達(dá)到 0.36 波長，如果用于掃 描成像，可以實現(xiàn) 38%的分辨率提高，對于藍(lán)色 405 納米的激光，分辨率可以小 于90納米。

產(chǎn)品詳細(xì)介紹

產(chǎn)品詳細(xì)介紹  JHT—DDC單人單面超凈化工作臺（垂直）   這是一種供單人操作的通用型局部凈化設(shè)備，氣流形式為垂直層流，它可造就局部高清潔度空氣環(huán)境，是科研制藥、醫(yī)療衛(wèi)生、電子光學(xué)儀器等行業(yè)最為理想的專用設(shè)備。 特點： 1、操作區(qū)為全不銹鋼 2、外型美觀結(jié)構(gòu)合理 3、采用自定們上下推拉門系統(tǒng) 4、風(fēng)量可調(diào)，雙側(cè)電源插座   技術(shù)指標(biāo)：   型號   JHT--DDC 外形尺寸 900×800×1630 工作臺尺寸 870×650×570 潔凈等級 100級@≥0.5ｕm(美聯(lián)邦209E) 平均風(fēng)速 0.3—0.5m/s(可調(diào)) 噪音 ≤65dB(A) 振動 ≤3ｕm 照明 ≥300LX 電源 220V 50HZ 消耗功率 ≤360W 紫外線 30W×1 照明 30W×1 備注 不銹鋼臺面，雙側(cè)電源，上下推拉門  

簡介：本發(fā)明提供一種超晶格結(jié)構(gòu)的納米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制備方法,屬于材料表面技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明該超硬膜是由電弧離子鍍的納米晶體相Cr2N和磁控濺射鍍的非晶體相WC層交替沉積而成,并且,超晶格的調(diào)制周期為10～20nm,Cr2N單層和WC單層的厚度分別為8～14nm和2～6nm。本發(fā)明的優(yōu)點在于:Cr2N層與WC層交替分布實現(xiàn)了Cr-N基膜成分多元化和結(jié)構(gòu)多層化,解決了抗氧化性較強的Cr-N基膜獲得超高硬度的難題,同時非晶WC層進一步提高了Cr-N基膜的抗氧化和耐腐蝕性能,滿足不能熱處理的

超細(xì)硅酸鋁是一種新型的白色顏料，是一種可改善顏料的著色力，遮蓋力和附著力等增效作用的功能性硅酸鹽。明顯地改進涂料白度，干膜遮蓋力，儲藏穩(wěn)定性及耐候性，所制造的涂料用于公路標(biāo)表線和斑馬線，可增大使用壽命和清晰度，是在發(fā)達(dá)國家中此種用途的首選顏料。此外，超細(xì)硅酸鋁還大量用于印染，皮革，油墨，造紙，塑料，橡膠等生產(chǎn)中。 將凈化處理后的水玻璃和工業(yè)硫酸鋁溶液分別稀釋，并制成一定濃度，在攪拌反應(yīng)槽中進行反應(yīng)生成硅酸鋁，經(jīng)陳化處理后，過濾，洗滌，干燥，粉碎及表面處理即可制成超細(xì)硅酸鋁產(chǎn)品。 年產(chǎn)5000噸的生產(chǎn)裝置，建設(shè)總投資約為1500－2000萬噸，產(chǎn)品遠(yuǎn)遠(yuǎn)滿足不了廣闊的市場需要。

本項目以制備超快高儲能柔性器件為導(dǎo)向，建立基于界面納米復(fù)合材料的新技術(shù)。通過水熱法和電化學(xué)方法在柔性導(dǎo)電基底上構(gòu)建納米陣列/金摻雜二氧化錳的三維納米復(fù)合電極，作為正極；通過水熱法和熱處理法在柔性導(dǎo)電基底上生長多孔氧化鐵納米復(fù)合材料，作為負(fù)極，組裝全固態(tài)薄膜器件。利用納米復(fù)合材料的多方面優(yōu)勢加速電子/離子在活性材料中的傳遞，進而達(dá)到超快高儲能的目的?；诩{米復(fù)合材料的全固態(tài)薄膜器件可展現(xiàn)出超快充電能力（10 V/s），比常規(guī)電容器的充電時間快10-100倍。這是國際上基于金屬氧化物贗電容薄膜型超級電容器研究領(lǐng)域的一個重大突破。此外，本項目以開發(fā)超快超柔儲能器件為導(dǎo)向，開發(fā)了一種熱力學(xué)誘導(dǎo)自發(fā)組裝和原位摻雜結(jié)合碳熱還原的方法來實現(xiàn)石墨烯納米篩粉體和薄膜的宏觀可控制備，解決了傳統(tǒng)石墨烯材料縱向物質(zhì)傳輸差的局限。通過控制碳熱溫度，可以調(diào)節(jié)石墨烯納米篩表面的孔密度，即孔徑大小可控（10~100 nm）。與傳統(tǒng)石墨烯薄膜電極相比，石墨烯納米篩表面豐富的孔結(jié)構(gòu)使得其作為電極材料時擁有更大的比表面積，而且電解質(zhì)離子可以在垂直于平面的軸向上傳遞，縮短了離子傳輸路徑。

火電廠煙氣脫硫技術(shù)目前國內(nèi)外約有上百種工藝，但是有實際應(yīng)用價值的僅十幾個工藝?！盃t內(nèi)噴鈣尾部活化” (LIFAC) 技術(shù)是芬蘭在 20 世紀(jì) 80 年代發(fā)明的一項技術(shù)，其特點是初投資少，占地面積小，系統(tǒng)簡單，運行費用低，在較低的 Ca/S 比的條件下可達(dá)中等脫硫效率 (70-80%) ，比較適合于我國現(xiàn)役火電機組脫硫改造。“直噴超細(xì)水合 CaO 粉煙氣脫硫”技術(shù)是在 LIFAC 技術(shù)基礎(chǔ)上進行改進，它的特點是用鍋爐廢水在高壓下水合 CaO ，使之形成水合石灰［ Ca(OH)2 · CaO ］，并在特殊的霧化方式下使之形成 10 μ左右的超細(xì)水合石灰顆粒，直接將其噴入鍋爐爐膛進行脫硫。該方法爐內(nèi)脫硫在 Ca/S ≈ 1.6 條件下，脫硫率達(dá)到了 78% 。預(yù)計在配水膜、布袋除塵后可以達(dá)到 85% 左右的脫硫率。可以去掉 LIFAC 的尾部活化和煙氣再熱系統(tǒng)。大大地降低了初投資。按目前價格計算投資成本約為 250 元 / 千瓦，不大于電站投資 5% ， Ca/S 比＜ 1.6 ，達(dá)到脫硫率 70-80% 。

本系列振動磨料機主要用于各種礦物類超微細(xì)固體顆粒的制備生產(chǎn)?；诔㈩w粒的塑性變形特征，本機型以適當(dāng)?shù)募虞d和激勵方式，使顆粒釋放塑性變形能而斷裂細(xì)化。因此，與國內(nèi)外同類技術(shù)相比，本機型可節(jié)能30-40%，降噪40%左右，節(jié)約介質(zhì)70%左右。本機型有效地抑制了亞諧波和高次諧波振動，具有穩(wěn)定性強，可靠性高等優(yōu)點。其主要技術(shù)指標(biāo) (以石灰石及磨料機規(guī)格82升為例): 1.作業(yè)方式：干法連續(xù)(無分級)      　2.入料顆度：≤1000μm 3.出料顆度：D90≤10μm             4.產(chǎn)量：40-50kg/h 5.比功率消耗：≤85kwh/t

隨著我國戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)（如高速鐵路、大飛機）和高端裝備制造業(yè)（如部分高速精密機床）的發(fā)展，高端軸承進口增長較快。目前高鐵軸承全部進口，部分高速精密機床軸承還需進口。從長遠(yuǎn)看，對我國戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)的成長將產(chǎn)生不利影響。鈦鎳合金是一種金屬間化合物，具有優(yōu)良的耐磨性、耐蝕性。鈦鎳合金TiNi60是一種Ti、Ni質(zhì)量原子比為40: 60的金屬間化合物，具有低密度、高硬度、優(yōu)異的耐蝕性以及良好的摩擦學(xué)性能且在熱處理前易于加工，可望在高速軸承中得到應(yīng)用。TiNi60的密度為6.7 g/cc，比普通軸承鋼密度小30%左右，密度小這一特點，可實現(xiàn)軸承的輕量化和高速化。本項目主要是解決現(xiàn)用滾動軸承材料難以滿足高速滾動在高鐵、高速機床等高技術(shù)領(lǐng)域應(yīng)用中高強度、低摩擦、高耐磨性要求的問題，采用高真空感應(yīng)熔煉技術(shù)制備出優(yōu)異性能的高速滾動軸承材料-鈦鎳60合金，并采用可生物降解潤滑劑的超滑技術(shù)對高速球軸承會為耐磨、減摩起到事半功倍的作用，為高端軸承的國產(chǎn)化奠定基礎(chǔ)，為我國裝備制造業(yè)的發(fā)展貢獻力量。本項目的前期工作，針對球軸承材料TiNi60采用蓖麻油潤滑獲得了超低摩擦系數(shù)（最低達(dá)到0.004）。該項技術(shù)完全由本課題組研發(fā)，完全具有自主知識產(chǎn)權(quán)，此外該技術(shù)具有生產(chǎn)過程環(huán)保、能耗小、制造成本低、產(chǎn)品易系列化和原材料無危險性、毒性等突出特點。因此可以肯定該項技術(shù)、該類產(chǎn)品的出現(xiàn)為我國軸承市場注入了新鮮的“血液”?？梢灶A(yù)見該技術(shù)的市場前景是非常廣闊的，其產(chǎn)品的市場競爭優(yōu)勢也是非常明顯的。

為滿足光電通訊、光學(xué)、信息等產(chǎn)業(yè)中小口徑非球面光學(xué)玻璃透鏡模具產(chǎn)業(yè)化的需求，研制了小口徑非球面光學(xué)玻璃透鏡模具超精密數(shù)控復(fù)合機床,具備納米級精度斜軸鏡面納米磨削、斜軸磁流變研拋、在線測量補償加工等功能，為小口徑非球面光學(xué)透鏡模具的產(chǎn)業(yè)化制造提供可靠的裝備支撐。分辨率10nm，主軸回轉(zhuǎn)精度50nm；加工對象為微小非球面透鏡及模具；加工口徑10mm以下；加工面形狀精度：PV小于300nm ，工件表面粗糙度小于Ra10nm。應(yīng)用領(lǐng)域包括集成電路（IC）、發(fā)光二極管（LED）、光學(xué)光電、MEMS、NTC、塑封件（QFN、BGA）、電子陶瓷、通訊、醫(yī)療器械等，能切割硅晶圓、砷化鎵、陶瓷、石英、PCB板、LED芯片、玻璃、鈮酸鋰、氧化鋁、藍(lán)寶石等。GUI交互界面。具備接觸式測高及非接觸式測高，刀痕檢測，具有切割深度自動補償，刀片破損補償功能，能保證切割質(zhì)量。