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本發明公開了一種光刻掩模優化設計方法，該方法首先依據表征掩模的網格格點尺寸大小對掩模進行分級，在粗網格上快速求解掩模，然后對在粗網格上求解得到的掩模進行插值傳播到下一級較細網格上進行細化校正，最終實現了掩模的快速優化。

本發明公開了一種用于浸沒式光刻的浸液溫控系統，包括：用于浸液流動的浸液管路，待溫控的浸液通過一管路進口進入該浸液管路，溫控處理后的具有穩定溫度的浸液通過該浸液管路的出口輸出；用于對所述浸液進行冷卻的工藝冷卻液回路，工藝冷卻液在該回路中循環流動；以及多個熱交換器，其沿流向依次布置，所述浸液管路和工藝冷卻水回路同時流經每個熱交換器，并利用各熱交換器分別依次完成工藝冷卻液和浸液之間的熱交換，從而通過多次換熱獲得具有穩定溫度的浸液，實現對浸液的溫度控制。本發明的裝置系統采用內部回流結構與多級熱交換器相結合，

北京技睿新天科技有限公司是一家致力于三維掃描系統研發、三維掃描儀生產與銷售，并提供三維掃描、產品設計、逆向造型培訓等專業服務的高新技術企業。 我公司具有雄厚的產品開發與技術創新能力，匯聚了一批擁有高學歷、豐富工程經驗的精英組成研發團隊。公司配備有專門的產品研發中心及項目工程部門，吸納國內最優秀的IT及機械行業專業人士，其人員組成以碩士博士為主，均來自全國各大名牌高校及科研院所，不但具有雄厚的新技術研發能力，亦具有科學合理的配套項目服務能力。公司在研發方面與中科院自動化研究所形成了合作機制，在新技術的運用及推廣上有良好的互動和協作。自公司成立至今，已將公司主要產品——技睿新天JR系列三維掃描系統軟件更新換代三次，相繼推出了JR系列三維掃描儀、JR人體掃描儀、普睿PRECAM攝影測量系統以及便攜接觸式測量系統（光筆系統），形成了成熟的產品體系，并全面提升了產品的性能及競爭力，產品所用技術在國內首屈一指，在國際亦名列前茅。  

懸賞金額：50萬元 發榜企業：惠州市強達電子工業有限公司 需求領域：特種功能材料 LED前沿與核心技術 精細化工 電子材料、半導體材料高分子、復合材料 產業集群：先進材料產業集群 技術關鍵詞：光刻樹脂; 光刻膠; 特種硅樹脂; 高性能硅橡膠; 紫外光固化技術

江西鼎技科學儀器有限公司，成立于2006-03-30，注冊資本為500萬人民幣，法定代表人為白偉林，經營狀態為存續，工商注冊號為360100210050938，注冊地址為江西省南昌市南昌高新技術產業開發區高新大道699號聚仁總部經濟園2#樓803-A，經營范圍包括許可項目：海關監管貨物倉儲服務（不含危險化學品、危險貨物），保稅物流中心經營，國營貿易管理貨物的進出口，第三類醫療器械經營（依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動）一般項目：工程和技術研究和試驗發展，寄賣服務，信息咨詢服務（不含許可類信息咨詢服務），貿易經紀，銷售代理，國內貿易代理，社會經濟咨詢服務，食品進出口，貨物進出口，化工產品銷售（不含許可類化工產品），進出口代理，技術進出口，進出口商品檢驗鑒定，會議及展覽服務，辦公設備耗材銷售，計算機軟硬件及輔助設備零售，計算機軟硬件及輔助設備批發，辦公設備銷售，家具安裝和維修服務，日用百貨銷售，五金產品零售，家具零配件銷售，技術玻璃制品銷售，日用化學產品銷售，日用品批發，租賃服務（不含許可類租賃服務），家具銷售，互聯網銷售（除銷售需要許可的商品），建筑用金屬配件銷售，安防設備銷售，云計算設備銷售，環境保護專用設備銷售，泵及真空設備銷售，光通信設備銷售，玻璃纖維及制品銷售，環境應急技術裝備銷售，鐘表與計時儀器銷售，地質勘探和地震專用儀器銷售，電子測量儀器銷售，光學儀器銷售，藥物檢測儀器銷售，實驗分析儀器銷售，繪圖、計算及測量儀器銷售，教學專用儀器銷售，紡織專用測試儀器銷售，第二類醫療器械銷售，金屬結構銷售，安全技術防范系統設計施工服務，工程技術服務（規劃管理、勘察、設計、監理除外），計算機系統服務，采購代理服務，消防技術服務，運輸設備租賃服務，裝卸搬運，住房租賃，公共事業管理服務，危險化學品應急救援服務，新材料技術推廣服務，互聯網安全服務，區塊鏈技術相關軟件和服務，辦公服務，園區管理服務，專用設備修理，電氣設備修理，通訊設備修理，日用電器修理，計算機及辦公設備維修，電子、機械設備維護（不含特種設備），儀器儀表修理，通用設備修理，5G通信技術服務，軟件開發，光通信設備制造，網絡與信息安全軟件開發，人工智能理論與算法軟件開發，軟件銷售，知識產權服務（專利代理服務除外），云計算裝備技術服務，信息技術咨詢服務，數據處理和存儲支持服務，技術服務、技術開發、技術咨詢、技術交流、技術轉讓、技術推廣，信息安全設備銷售，網絡設備銷售，互聯網數據服務，軟件外包服務，互聯網設備銷售

　　深圳技湛科技有限公司成立于2013年8月，是一家擁有音視頻核心研發能力的高科技創新型企業，公司核心創始人研發團隊專注音頻核心算法研究超過十年，具備豐富的音視頻研發經驗和精湛的技術實力。目前深圳技湛已推出擁有核心競爭力自主品牌的音頻處理器操作系統，并通過深圳市高新技術和軟件企業認證，成為音頻領域技術研發能力頂尖的高科技公司。 　　深圳技湛專注于研發、生產、銷售具備自主知識產權“GEAZAN”品牌的數字音頻處理器、模擬和數字麥克風、本地遠講數字擴聲系統等整套前端音頻解決方案產品。另外，深圳技湛同時為幾十家音視頻品牌廠商提供ODM技術支撐和OEM產品，為合作伙伴提供定制化的音頻配套產品。 　　深圳技湛自公司成立至今，憑借積極奮進，不斷進取的專注精神，秉承“聆聽、精進”的企業文化，公司產品和技術服務得到業內諸多知名品牌企業客戶的贊譽和認可。深圳技湛已成為數字音頻領域自主創新品牌的新軍。

1.痛點問題 光刻膠作為集成電路制備中不可或缺的一部分，已成為國家的戰略資源之一。半導體光刻膠的核心在于成膜樹脂，受限于研發難度大、專利壁壘高、資金投入多、準入門檻高，目前國內企業尚難以突破KrF膠（248nm）或ArF膠（193nm），而EUV膠完全不能自主供給。 2.解決方案 本項技術采用了國際最前沿的納米氧化物團簇材料的工藝路線，可以實現單2nm小分子的光刻膠成膜樹脂材料，攻克了材料合成和納米材料提純的難題，可滿足目前半導體3nm制程節點的技術要求，RLS分辨率、邊緣粗糙度、靈敏度三項關鍵性能指標優異，其曝光劑量遠低于Intel公司提出的20mJ/cm2的成本線。此外，本項技術具有多種半導體光刻膠兼容性，可以生產248nm和193nm光源的半導體光刻膠成膜樹脂，以及電子束半導體掩膜用光刻膠成膜樹脂，具有廣闊的技術替代優勢和市場應用前景。 3.合作需求 本項技術已設立衍生企業，位于江蘇常州的3000m2研發生產中心正在建設中。 1）融資需求：本輪天使輪融資6000萬元。 2）資源對接需求：集成電路芯片制造、掩膜板生產企業，地方政府等。

目前半導體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團的成膜材料和光產酸劑組成，這種體系最大的問題是光產酸在后烘階段會發生酸遷移，導致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問題的一種方法是采用高分子光產酸劑，且其光產酸是高分子強酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產酸基團的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們在曝光過程中產生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產酸劑與其它成膜材料一起組成化學增幅型光致抗蝕劑。 以之為產酸劑與其它部分保護的對羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護部分酚羥基，由其組成了單組分的化學增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現。  利用高分子產酸劑透明性好的特點，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達5：1的光刻圖形：  在此基礎上，還制備了負型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現。這些高分子光產酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應條件溫和可控，去金屬雜質的方法也是簡便易行，成本相對低廉，在經過多年的深入研究之后，完全具備了產業化的條件。 半導體加工的關鍵設備、材料主要掌握在美、日手中，對我國電子工業的平穩發展帶來困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關鍵材料，日本公司的產品占據全球市場的70%以上，而我國在中高端產品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進口，即便是低端的i-線光刻膠國產化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉這種不利的局面，這需要科研工作者和產業界共同努力以及政府的大力支持。     近年來光刻膠引起了社會的廣泛關注，已有多家企業開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發與產業化，但絕大部分仍處于研發階段。我們研制的光刻膠具備了產業化的技術條件并具有與國外先進光刻膠產品競爭的產品性能。    半導體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國家十五“863”光刻膠重大專項開始，至今近二十年來聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結果，也在致力于這些光刻膠產品的產業化。 相關項目、專利及文章： 1.國家重大科技專項（02專項）子課題,課題編號:2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產酸劑及新型成膜樹脂的擴試技術研究） 2.國家自然科學基金應急管理項目，51641301, 含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應用，中國發明專利，專利號：9。

目前半導體光刻加工用的深紫外光刻膠都采用化學增幅體系，這種體系主要由含酸敏基團的成膜材料和光產酸劑組成，這種體系最大的問題是光產酸在后烘階段會發生酸遷移，導致光刻分辨率難以提高。能夠有效改善酸遷移問題的一種方法是采用高分子光產酸劑，且其光產酸是高分子強酸。 課題組研制了一系列新穎的含多種鎓鹽光產酸基團的苯乙烯衍生物及其與甲基丙烯酸酯的共聚物。它們在曝光過程中產生大分子的磺酸，因此可作為大分子光產酸劑與其它成膜材料一起組成化學增幅型光致抗蝕劑。 以之為產酸劑與其它部分保護的對羥基苯乙烯聚合物一起組成二組分的化學增幅型248-nm光刻膠， 制備了苯乙烯磺酸鎓鹽和甲基丙烯酸酯、對羥基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保護部分酚羥基，由其組成了單組分的化學增幅型248-nm光刻膠，這些正型248-nm光刻膠獲得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及圖形線條平滑陡直等的出色表現。   利用高分子產酸劑透明性好的特點，還制備了厚膜248-nm光刻膠，可獲得線寬0.34微米、高-寬比可達5：1的光刻圖形：   在此基礎上，還制備了負型248-nm光刻膠，這些光刻膠也都獲得了很好的光刻成像性能表現。這些高分子光產酸劑也可用于制備新型的高性能193-nm光刻膠。 這些248-nm光刻膠的主要組分除了溶劑外都是自行制備，原料易得，反應條件溫和可控，去金屬雜質的方法也是簡便易行，成本相對低廉，在經過多年的深入研究之后，完全具備了產業化的條件。 半導體加工的關鍵設備、材料主要掌握在美、日手中，對我國電子工業的平穩發展帶來困難和潛在的巨大威脅。其中光刻膠作為芯片光刻加工的關鍵材料，日本公司的產品占據全球市場的70%以上，而我國在中高端產品上（248-nm光刻膠、193-nm光刻膠）完全依賴進口，即便是低端的i-線光刻膠國產化率也只有20%左右。因此，我們必須盡快扭轉這種不利的局面，這需要科研工作者和產業界共同努力以及政府的大力支持。     近年來光刻膠引起了社會的廣泛關注，已有多家企業開始投身于248-nm光刻膠與193-nm光刻膠的研發與產業化，但絕大部分仍處于研發階段。我們研制的光刻膠具備了產業化的技術條件并具有與國外先進光刻膠產品競爭的產品性能。    半導體加工用光刻膠種類較多，本課題組從2002年參與國家十五“863”光刻膠重大專項開始，至今近二十年來聚焦于光刻膠研究，在i-線膠、248-nm光刻膠、聚酰亞胺光刻膠、厚膜光刻膠及抗反射涂層材料等方面都取得了很好的結果，也在致力于這些光刻膠產品的產業化。 相關項目、專利及文章： 1.國家重大科技專項（02專項）子課題,課題編號:2010ZX02303（深紫外光刻膠專用光致產酸劑及新型成膜樹脂的擴試技術研究） 2.國家自然科學基金應急管理項目，51641301, 含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其組成的化學增幅光致抗蝕劑研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光產酸基團的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制備及其應用，中國發明專利，專利號：9。