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本發(fā)明公開了一種基于光譜分辨率校正提高光信噪比測(cè)量精度 的方法，通過(guò)測(cè)量一定帶寬內(nèi)寬光譜信號(hào)的實(shí)際功率，以及采用光譜 分析儀測(cè)量該寬光譜信號(hào)在該帶寬內(nèi)的采樣點(diǎn)的功率之和，獲取光譜 分析儀的校正分辨率；并用校正分辨率代替光譜分析儀的設(shè)置分辨率， 獲取光信噪比，提高其測(cè)量精度；本發(fā)明提供的這種基于光譜分辨率 校正提高光信噪比測(cè)量精度的方法能有效地解決光譜分析儀的設(shè)置分 辨率與實(shí)際分辨率不同導(dǎo)致光信噪比測(cè)量誤差較大的問(wèn)題；

本發(fā)明提供了一種基于快速二值編碼的高分辨率遙感影像場(chǎng)景分類方法，包括步驟:步驟 1，劃分 待分類遙感影像獲得場(chǎng)景單元;步驟 2，從場(chǎng)景單元中提取尺寸相同的圖像塊作為局部圖像塊訓(xùn)練樣本; 步驟 3，采用非監(jiān)督學(xué)習(xí)法學(xué)習(xí)局部圖像塊訓(xùn)練樣本獲得濾波器組;步驟 4，將場(chǎng)景單元與濾波器組中 各濾波器分別做卷積獲得各場(chǎng)景單元的幅濾波器響應(yīng)圖，采用二值編碼法分別融合各場(chǎng)景單元的幅濾波 器響應(yīng)圖獲得各場(chǎng)景單元的全局特征描述;步驟 5，基于場(chǎng)景單元的全局特征描述進(jìn)行場(chǎng)景單元分類。 本發(fā)明在保證場(chǎng)景分類精度的前提下，大大降低了非監(jiān)學(xué)習(xí)法的計(jì)算代價(jià)。

產(chǎn)品詳細(xì)介紹

本發(fā)明公開了高視角分辨率的360°視場(chǎng)三維顯示裝置，包括：LED光源、照明光學(xué)系統(tǒng)、空間光調(diào)制器、投影光學(xué)系統(tǒng)、組合式定向散射屏、轉(zhuǎn)動(dòng)裝置、圖像存儲(chǔ)控制模塊、轉(zhuǎn)動(dòng)檢測(cè)模塊和光源脈沖驅(qū)動(dòng)控制模塊。本發(fā)明還公開了實(shí)現(xiàn)高視角分辨率的360°視場(chǎng)三維顯示方法。本發(fā)明通過(guò)光源脈沖驅(qū)動(dòng)控制模塊對(duì)LED光源進(jìn)行脈沖點(diǎn)亮的方式與組合式定向散射屏的旋轉(zhuǎn)相配合，利用了每個(gè)定向散射子屏散射方向的微小偏差實(shí)現(xiàn)高密度的視角掃描，實(shí)現(xiàn)了具有高視角分辨率的360°視場(chǎng)三維顯示，提高了三維顯示圖像的質(zhì)量，更加符合人眼自然觀察的習(xí)慣。

本發(fā)明公開了一種空間分辨率自適應(yīng)調(diào)整的粒子圖像測(cè)速矢量估計(jì)方法。所述空間分辨率自適應(yīng)調(diào)整的粒子圖像測(cè)速矢量估計(jì)方法，首先對(duì)第 n 時(shí)刻和第 n+1 時(shí)刻的圖像進(jìn)行降噪處理，然后根據(jù)第 n 時(shí)刻的查詢窗口參數(shù)更新第 n+1 時(shí)刻的查詢窗口參數(shù),最后根據(jù)第 n+1 時(shí)刻的查詢窗口參數(shù)，對(duì)第 n 時(shí)刻和第 n+1 時(shí)刻圖像進(jìn)行 PIV 流場(chǎng)矢量估計(jì)，得到全場(chǎng)速度矢量，其中查詢窗口參數(shù)由人工指定。本發(fā)明提供的空間分辨率自適應(yīng)調(diào)整的粒子圖像測(cè)量方法突破了傳統(tǒng)的粒子圖像測(cè)速方法單向計(jì)算的計(jì)算模式，能自動(dòng)適應(yīng)流暢

本發(fā)明公開了一種空間分辨率自適應(yīng)調(diào)整的粒子圖像測(cè)速矢量 估計(jì)方法。所述空間分辨率自適應(yīng)調(diào)整的粒子圖像測(cè)速矢量估計(jì)方法， 首先對(duì)第 n 時(shí)刻和第 n+1 時(shí)刻的圖像進(jìn)行降噪處理，然后根據(jù)第 n 時(shí) 刻的查詢窗口參數(shù)更新第n+1時(shí)刻的查詢窗口參數(shù),最后根據(jù)第n+1時(shí) 刻的查詢窗口參數(shù)，對(duì)第 n 時(shí)刻和第 n+1 時(shí)刻圖像進(jìn)行 PIV 流場(chǎng)矢量 估計(jì)，得到全場(chǎng)速度矢量，其中查詢窗口參數(shù)由人工指定。本發(fā)明提 供的空間分辨率自適應(yīng)調(diào)整的粒子圖像測(cè)量方法突破了傳統(tǒng)的粒子圖 像測(cè)速方法單向計(jì)算的計(jì)算模式，能自動(dòng)適

本實(shí)用新型提供一種提高微型光譜儀紫外響應(yīng)和分辨率的濾光片，包括基板、鍍膜層和鍍膜保護(hù)層， 所述鍍膜層分為三個(gè)區(qū)域，在不同區(qū)域分別鍍有紫外轉(zhuǎn)換膜，紫外截止濾光膜，可見光截止濾光膜。本 實(shí)用新型同時(shí)解決了紫外效率低、可見光、紅外光波段存在高次衍射光的問(wèn)題，并且可以根據(jù)光譜儀的 光譜范圍選擇鍍膜的層數(shù)、類型、區(qū)間長(zhǎng)度，具有安裝拆卸方便，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用靈活的特點(diǎn)，且鍍膜 之間不會(huì)相互產(chǎn)生干涉。 

本發(fā)明公開了一種時(shí)間分辨率自適應(yīng)調(diào)整的流場(chǎng)狀態(tài)測(cè)量方法，該方法包括如下步驟：首先，根據(jù)第 k+1 時(shí)刻圖像與第 k 時(shí)刻圖像之間的時(shí)間間隔Δt_k，采集第 k+1 時(shí)刻圖像，并對(duì)第 k 時(shí)刻和第k+1 時(shí)刻的圖像進(jìn)行降噪處理；然后，據(jù) k 時(shí)刻圖像和第 k+1 時(shí)刻的圖像，采用粒子圖像測(cè)速方法，計(jì)算第 k+1 時(shí)刻的流場(chǎng)狀態(tài) X(k+1)，包括：位移場(chǎng) x(k+1)、速度場(chǎng) x′(k+1)、加速度場(chǎng) a(k+1)，并輸出顯示；最后，更新第 k+2 時(shí)刻與第

霍爾效應(yīng)測(cè)試儀—高低溫磁場(chǎng)型本儀器系統(tǒng)由：電磁鐵、電磁鐵電源、高精度恒流源高精度電壓表、高斯計(jì)、霍爾效應(yīng)樣品支架、標(biāo)準(zhǔn)樣品、高低溫杜瓦，控溫儀，系統(tǒng)軟件。為本儀器系統(tǒng)專門研制的JH10 效應(yīng)儀將恒流源，六位半微伏表及霍爾測(cè)量復(fù)雜的切換繼電器——開關(guān)組裝成一體，大大減化了實(shí)驗(yàn)的連線與操作。 您也可以在淘寶網(wǎng)首頁(yè)搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業(yè)店鋪，聯(lián)系更加方便快速！ 產(chǎn)品概述： 本儀器系統(tǒng)由：電磁鐵、電磁鐵電源、高精度恒流源高精度電壓表、高斯計(jì)、霍爾效應(yīng)樣品支架、標(biāo)準(zhǔn)樣品、高低溫杜瓦，控溫儀，系統(tǒng)軟件。為本儀器系統(tǒng)專門研制的JH10 效應(yīng)儀將恒流源，六位半微伏表及霍爾測(cè)量復(fù)雜的切換繼電器——開關(guān)組裝成一體，大大減化了實(shí)驗(yàn)的連線與操作。JH10 可單獨(dú)做恒流源、微伏表使用。用于測(cè)量半導(dǎo)體材料的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)等重要參數(shù)，而這些參數(shù)是了解半導(dǎo)體材料電學(xué)特性必須預(yù)先掌控的，因此霍爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)是理解和研究半導(dǎo)體器件和半導(dǎo)體材料電學(xué)特性必*的工具。 實(shí)驗(yàn)結(jié)果由軟件自動(dòng)計(jì)算得到，可同時(shí)得到體載流子濃度(Bulk Carrier oncentration)、表面載流子濃度(Sheet Carrier Concentration)、遷移率(Mobility)、電阻率(Resistivity)、霍爾系數(shù)(Hall Coefficient)、磁致電阻(Magnetoresistance)等。 您也可以在淘寶網(wǎng)首頁(yè)搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業(yè)店鋪，聯(lián)系更加方便快速！ 可測(cè)試材料: Ø 半導(dǎo)體材料：SiGe, SiC, InAs, InGaAs, InP, AlGaAs, HgCdTe 和鐵氧體材料等； 低阻抗材料：石墨烯、金屬、透明氧化物、弱磁性半導(dǎo)體材料、TMR 材料等； 高阻抗材料：半絕緣的 GaAs, GaN, CdTe 等。 您也可以在淘寶網(wǎng)首頁(yè)搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業(yè)店鋪，聯(lián)系更加方便快速！