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技術(shù)原理和用途 ：利用乙炔和三氯氫硅進(jìn)行催化加成，合成乙烯基三 氯硅烷。該化合物既是一種硅烷偶聯(lián)劑，又是一種重要的有機(jī)硅單體，以 它為原料，可制得乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷等。這類硅 烷偶聯(lián)劑，可用于玻璃纖維表面處理劑、密封劑、涂料、膠粘劑等，還可 用于聚乙烯、聚丙烯、不飽和聚酯等的改性。 技術(shù)特點(diǎn) ：以 150 基本產(chǎn)品或原料，可生產(chǎn)一系列下游產(chǎn)品，有較大 的機(jī)動(dòng)性，而且重點(diǎn)解決了催化劑的穩(wěn)定性及選擇性

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 1.      主要參數(shù)： ★掃描方式：激光手持照相式 ★掃描技術(shù)：激光線網(wǎng)格掃描技術(shù) 幀掃描區(qū)域：250mm×250mm 景深：250mm（自動(dòng)） 工作距離：300mm ★掃描速率： 300000次/秒 掃描分辨率：0.100（毫米） ★測(cè)量精度：0.03 mm ★體積精度：0.020 + 0.100（毫米/米） 體積精度（結(jié)合DigiMetric）：0.020 + 0.025（毫米/米） 測(cè)量范圍（物件尺寸）：0.1 ～6米，可擴(kuò)展 傳輸方式： USB3.0 工作溫度：-10 - 40℃ 工作濕度：10 - 90 % 三維光學(xué)掃描系統(tǒng)配置與功能 數(shù)據(jù)采集傳感器：高速、高精密工業(yè)級(jí)相機(jī)2臺(tái) ★內(nèi)置微慣性傳感器，實(shí)時(shí)輸出設(shè)備位姿； ★測(cè)量光源：10束交叉激光線，激光級(jí)別ClassII(人眼安全)，波長(zhǎng)大于600納米 計(jì)算機(jī)系統(tǒng)：支持windows 7，32位和64位操作系統(tǒng)，支持內(nèi)存16G以上 拼接方式：系統(tǒng)整合“專業(yè)模式”全自動(dòng)標(biāo)志點(diǎn)拼接模塊 全局誤差控制方式：GREC Pro全局誤差控制 ★掃描方式：FLESA可變點(diǎn)距掃描 ★使用方便：整個(gè)過(guò)程全部手持完成，無(wú)需三腳架等支撐裝置 所測(cè)量的物體表面可不做任何形式（如噴白）的預(yù)先處理 防抖設(shè)計(jì)：采用先進(jìn)的防抖動(dòng)算法，防止掃描過(guò)程中人為的抖動(dòng)對(duì)誤差的影響 自動(dòng)探測(cè)被掃描物體顏色材質(zhì)，從而自動(dòng)調(diào)節(jié)激光亮度及CCD曝光 可一鍵自動(dòng)過(guò)濾掃描背景數(shù)據(jù)，自動(dòng)刪除雜點(diǎn)及過(guò)濾不良點(diǎn)云數(shù)據(jù) 軟件界面實(shí)時(shí)捕捉靜態(tài)圖像，一鍵截圖功能 ★碳纖維材質(zhì)標(biāo)定板，輕量化，抗壓耐高溫，不易變形，非石英玻璃材質(zhì)。雙面標(biāo)定，白平衡標(biāo)定功能，有效減少掃描噪聲 三維光學(xué)掃描系統(tǒng)軟件功能 ★全中文軟件界面 ★自適應(yīng)形面掃描模塊 自動(dòng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)參數(shù)，自適應(yīng)各種材質(zhì)/顏色表面的不同掃描對(duì)象，無(wú)需手動(dòng)調(diào)節(jié)； FLESA可變點(diǎn)距掃描，在同一次掃描中，可對(duì)點(diǎn)距進(jìn)行靈活設(shè)置和改變，同時(shí)滿足高速掃描以及精細(xì)掃描的需求 ★自動(dòng)拼接模塊 智能標(biāo)志點(diǎn)識(shí)別技術(shù)：系統(tǒng)自動(dòng)跟蹤識(shí)別標(biāo)志點(diǎn)； 慣性—光學(xué)混合式傳感器定位技術(shù)，實(shí)時(shí)將數(shù)據(jù)自動(dòng)配準(zhǔn)到同一坐標(biāo)系； GREC Pro全局誤差控制模塊，可對(duì)拼接后的誤差進(jìn)行全局控制； ★全局框架掃描模塊 全局框架掃描技術(shù)，對(duì)框架點(diǎn)累積誤差進(jìn)行全局控制； 兼容DigiMetric系統(tǒng)，搭載全局?jǐn)z影測(cè)量技術(shù)可將掃描范圍擴(kuò)展至幾十米； ★后處理模塊 掃描數(shù)據(jù)后，可進(jìn)行點(diǎn)云噪聲處理及修剪 內(nèi)置友好的網(wǎng)格處理控制參數(shù)人機(jī)交互界面，可對(duì)去除釘狀物、精簡(jiǎn)、平滑、特征銳化等網(wǎng)格處理參數(shù)進(jìn)行設(shè)置 自動(dòng)生成STL三角面 自動(dòng)對(duì)三角網(wǎng)格數(shù)據(jù)進(jìn)行補(bǔ)洞、去除釘狀物、精簡(jiǎn)、平滑、特征銳化等處理 數(shù)據(jù)輸入輸出 導(dǎo)出結(jié)果為ASC，STL，OBJ，OKO等格式數(shù)據(jù)輸出接口廣泛,測(cè)量結(jié)果可與CATIA、Geomagic Studio、Imageware等逆向工程軟件自由交換數(shù)據(jù) 配備三維數(shù)據(jù)管理系統(tǒng)  1套 采用三維引擎實(shí)現(xiàn)對(duì)三維模型、圖片和文字的顯示； ★采用Access數(shù)據(jù)庫(kù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)對(duì)象的樹狀管理和從圖片上選擇區(qū)域進(jìn)行切換等功能，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)三維數(shù)據(jù)、圖片和文字的有效管理； ★能對(duì)三維數(shù)據(jù)進(jìn)行多層次樹狀結(jié)構(gòu)管理，實(shí)現(xiàn)從大場(chǎng)景到局部細(xì)節(jié)的有效管理； ★支持對(duì)三維模型、圖片和文字的綜合管理，并能相互切換； 支持從圖片上選擇區(qū)域切換，用戶可以隨心所欲的瀏覽對(duì)象的每一個(gè)細(xì)節(jié)； ★截取高清晰的光照?qǐng)D信息； ★實(shí)現(xiàn)對(duì)三維模型的分析如距離等進(jìn)行量測(cè)，得到最準(zhǔn)確的測(cè)繪資料； 數(shù)據(jù)庫(kù)基于Windows XP操作系統(tǒng)； 三維模型的支持格式為： STL，OBJ，VRML，IGES，OKO； 圖片支持的格式為：JPG，BMP； 文字支持的格式為：html； ★素材支持：配備一個(gè)3d素材庫(kù)，素材庫(kù)數(shù)量須大于2萬(wàn)個(gè)，素材涵蓋人物、卡通、教育、建筑、時(shí)尚、玩具、動(dòng)物、植物、家居、工具、動(dòng)漫游戲等類別，素材擁有25個(gè)以上特色專題，每個(gè)專題包含至少5個(gè)以上同類別優(yōu)質(zhì)素材。素材庫(kù)包含網(wǎng)站及APP，APP同步支持安卓及IOS下載，素材庫(kù)系統(tǒng)須取得電腦終端與iphone移動(dòng)終端及Android移動(dòng)終端《計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記證書》。 2. 提供生產(chǎn)廠商對(duì)本項(xiàng)目的原廠項(xiàng)目授權(quán)委托書及售后服務(wù)承諾書原件。（須加蓋生產(chǎn)廠商單位公章） 3. 投標(biāo)單位配備的3D模型庫(kù)需提供《軟件著作權(quán)登記證書》。（復(fù)印件并加蓋軟件供應(yīng)商單位公章） 4. 投標(biāo)人所投3D掃描儀具有中美青年創(chuàng)客大賽指定3D掃描品牌證書 第1條所列產(chǎn)品參數(shù)為招標(biāo)基礎(chǔ)要求，加★部分為必須滿足項(xiàng)，投標(biāo)產(chǎn)品的參數(shù)值應(yīng)符合或高于本條要求。投標(biāo)單位須提供投標(biāo)產(chǎn)品的印刷彩頁(yè)，并加蓋生產(chǎn)廠商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)參數(shù)。 第2條項(xiàng)目授權(quán)委托書及售后服務(wù)承諾書須提供原件并加蓋生產(chǎn)廠商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)文件參數(shù)。 第3條《軟件著作權(quán)登記證書》須提供復(fù)印件并加蓋軟件供應(yīng)商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)文件參數(shù)。 第4條要求為招標(biāo)附加要求，投標(biāo)產(chǎn)品如符合要求，可加5分，如不符合，須減5分。

本項(xiàng)目國(guó)際上首次實(shí)現(xiàn)了分子篩膜材料的連續(xù)化合成。解決了無(wú)機(jī)分子篩膜材料生產(chǎn)的品質(zhì)穩(wěn)定性難題，保障了超低缺陷分子篩膜材料的大規(guī)模生產(chǎn)應(yīng)用。 本項(xiàng)目基于國(guó)際首創(chuàng)的微波介電合成技術(shù),通過(guò)微波連續(xù)鍍膜裝備的自主研發(fā)，進(jìn)一步強(qiáng)化微波合成過(guò)程中的非熱效應(yīng)（如Maxwell-Wagner效應(yīng)，選鍵活化效應(yīng)等)，弱化熱效應(yīng)，在國(guó)際上首次實(shí)現(xiàn)了高質(zhì)量分子篩膜材料的連續(xù)化生產(chǎn)。專家組鑒定意見為:項(xiàng)目自主開發(fā)了連續(xù)化微波鍍膜技術(shù)、自動(dòng)化膜管后處理技術(shù)、分子篩膜管質(zhì)量在線檢測(cè)技術(shù)，并研制了相關(guān)生產(chǎn)與檢測(cè)設(shè)備，形成了自動(dòng)化分子篩膜連續(xù)生產(chǎn)線，年產(chǎn)量大于2萬(wàn)平米，合格品率大于99%，優(yōu)級(jí)品率大于90%。這些指標(biāo)與代表國(guó)際領(lǐng)先水平的日本三井造船和三菱化學(xué)的數(shù)據(jù)相比，具有5倍以上的單線產(chǎn)能提升和15%以上的合格品率提升，解決了分子篩膜材料生產(chǎn)的品質(zhì)穩(wěn)定性難題。更為重要的是，利用微波合成技術(shù)將分子篩膜的構(gòu)成晶體從微米級(jí)縮小至納米級(jí)，極大程度上消除了傳統(tǒng)方法無(wú)法解決的系統(tǒng)缺陷，優(yōu)級(jí)品分子篩膜表現(xiàn)出世界領(lǐng)先的分離選擇性，為分子篩膜超深度脫水應(yīng)用奠定了重要基礎(chǔ)。

本發(fā)明提供了一種在超細(xì)鎢絲表面電沉積鋁鎂合金薄膜的方法。該方法克服了在有機(jī)溶劑、離子液體體系中電沉積鋁鎂合金薄膜存在鍍液體系不穩(wěn)定，原料成本高昂，鍍液配置不易，使用壽命較短，制得的鋁鎂合金薄膜中鎂含量較低等問(wèn)題。該方法在低溫?zé)o機(jī)熔鹽體系中，氯化鋁和氯化鎂作為主鹽，氯化鈉和氯化鉀作為支持電解質(zhì)；以超細(xì)鎢絲作為電沉積陰極，鋁為陽(yáng)極，控制電鍍溫度，電鍍時(shí)間以及電流密度，在惰性氛圍保護(hù)下進(jìn)行鋁鎂合金薄膜在超細(xì)鎢絲表面的電沉積。

本發(fā)明提供了一種基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的超密集異構(gòu)網(wǎng)絡(luò)負(fù)載均衡優(yōu)化方法，將ART2型神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)和基于代價(jià)的分布式方法相結(jié)合的低復(fù)雜度超密集異構(gòu)網(wǎng)絡(luò)下行用戶連接方法，聯(lián)合調(diào)整所有小站的代價(jià)偏置值，解決超密集異構(gòu)網(wǎng)中的負(fù)載均衡問(wèn)題。本發(fā)明采用ART2型神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的分類設(shè)置初始值，可以大大降低迭代次數(shù)和計(jì)算復(fù)雜度，能提高基站邊緣和中間的用戶的吞吐量率，自動(dòng)的均衡跨層和同層之間基站的負(fù)載，進(jìn)一步顯著降低負(fù)載均衡迭代方法的迭代次數(shù)，更加適應(yīng)快速?gòu)?fù)雜多變的實(shí)際情況。

本發(fā)明公開了一種納米改性超穩(wěn)定泡沫及其在超輕密度水泥基多孔材料中的應(yīng)用。通過(guò)將納米顆粒穩(wěn)定分散在發(fā)泡劑中，改性后的發(fā)泡劑在攪拌發(fā)泡后可實(shí)現(xiàn)納米顆粒對(duì)氣泡的包裹，使得泡沫由傳統(tǒng)的氣—液兩相結(jié)構(gòu)變?yōu)闅狻骸倘嘟Y(jié)構(gòu)，顯著的提高了泡沫的穩(wěn)定性。由改性后的發(fā)泡劑制備的泡沫穩(wěn)定性好，尺寸細(xì)小均一，并且由此制備的超輕多孔水泥基材料強(qiáng)度高，不塌陷，解決了傳統(tǒng)超輕水泥基材料性能差等問(wèn)題，是一種提高超輕水泥基材料性能的有效方法。