光電輪廓儀

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納米科技是21世紀材料技術革命的核心，而納米測量是納米技術中重要環節，我校研制的光電輪廓儀是納米測量的重要儀器之一。該儀器除在計量系統作為傳遞基準儀外，也可廣泛用于材料科學、生物學、化學、微機械學以及半導體工業等領域中的納米分析測量。

   儀器主要技術指標為：

   測量方法：非接觸式、三維、光學相移干涉法

   物鏡倍率：40X

   測量范圍：0.1×0.1mm

   測量列陣：510×510象素

   最小顯示值：0.1nm

   測量表面粗糙度范圍：Ra～0.1nm-120nm

   最大可測量臺階和孔深：1100nm

  儀器Ra測量重復性：Ra≤1nm

試用