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北京航空航天大學(xué)
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涂層復(fù)合沉積系統(tǒng)

2021-04-13 00:00:00
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關(guān)鍵詞: 涂層復(fù)合沉積
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項(xiàng)目成果/簡(jiǎn)介:

目前,我國(guó)工模具等工業(yè)化高端涂層設(shè)備主要掌握在瑞士、日本、美國(guó)等發(fā)達(dá)國(guó)家手中。本技術(shù)是建立在我國(guó)的全方位離子注入基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的成果。涂層復(fù)合沉積系統(tǒng)由矩形弧源、磁控濺射元、彎曲電弧磁過(guò)濾電弧源、全方位離子注入工件架等部分組成,主要應(yīng)用在薄膜制備、超硬涂層、潤(rùn)滑涂層、光學(xué)涂層等方面,對(duì)比試驗(yàn)表明,該技術(shù)達(dá)到了國(guó)際先進(jìn)水平,具有良好的市場(chǎng)應(yīng)用前景。

沉積超硬涂層可以但不限于沉積TiN、TiAlN、TiSiN、TiAlSiN等涂層,也可以用于沉積類(lèi)金剛石涂層。在高速鋼上面沉積的TiN涂層結(jié)合力超過(guò)100N,真空度優(yōu)于8x10-4Pa。


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